[发明专利]晶片的加工方法有效

专利信息
申请号: 201811432831.0 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109865938B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 深谷幸太;蔡龙;陈之文 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: B23K26/062 分类号: B23K26/062;B23K26/38;B23K26/70;H01L21/78
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 乔婉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶片 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种晶片的加工方法,对设定有交叉的多条分割预定线的晶片进行加工,其中,

该晶片的加工方法具有如下的步骤:

改质层形成步骤,将对于晶片具有透过性的波长的激光束的聚光点定位于晶片的内部,从晶片的一个面按照第一输出对与该分割预定线相对应的区域照射激光束,从而在晶片的内部形成分割起点用改质层;以及

分割步骤,在实施了该改质层形成步骤之后,对晶片赋予外力而以该分割起点用改质层为起点将晶片沿着该分割预定线进行分割,

该改质层形成步骤包含如下的子步骤:

第一子步骤,在该分割起点用改质层的形成之前,按照比该第一输出小的第二输出照射激光束,在晶片的该一个面附近内部形成对裂纹延伸方向进行引导的裂纹引导层,所述第二输出是不产生裂纹的程度的低输出或者使裂纹不到达晶片的该一个面的程度的低输出;以及

第二子步骤,在实施了该第一子步骤之后,将聚光点定位于与该裂纹引导层同等的位置或比该裂纹引导层靠与该一个面相反的另一个面侧的位置,按照该第一输出照射激光束,从而形成该分割起点用改质层,并且在形成该分割起点用改质层的过程中形成从该分割起点用改质层沿着裂纹引导层延伸而连通到该一个面的裂纹。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社迪思科,未经株式会社迪思科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811432831.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top