[发明专利]固态成像装置和电子设备

权利要求书

1.一种成像装置，包括：

像素阵列单元，包括第一像素和第二像素，其中，所述第一像素是相差像素，所述第二像素是成像像素；和

列处理单元，

其中，第一像素和第二像素中的每一个包括：

微型透镜；

浮置扩散区域；和

光电转换区域，被配置为接收通过微型透镜的光并耦合到浮动扩散区域，

其中，第一像素的光电转换区域的光入射表面由形成在沟槽中的光屏蔽结构分成四个子区域，并且所述光屏蔽结构包括在第一像素的第一和第二相对侧之间延伸的第一部分和在第一像素的第三和第四相对侧之间延伸的第二部分，并且其中第一和第二部分在俯视图中彼此垂直。

2.根据权利要求1所述的成像装置，

其中，第二像素的光电转换区域的光入射表面未被光屏蔽结构分成四个子区域。

3.根据权利要求1所述的成像装置，

其中，分开的四个子区域的尺寸设置得不均匀。

4.根据权利要求1所述的成像装置，其中，所述光屏蔽结构包括金属材料。

5.根据权利要求1所述的成像装置，其中，所述第一像素包括四个光电二极管，并且其中，所述光屏蔽结构将所述第一像素的所述四个光电二极管彼此分开。

6.一种成像装置，包括：

像素阵列单元，包括第一像素和第二像素，其中，所述第一像素是相差像素，所述第二像素是成像像素；和

列处理单元，

其中，第一像素和第二像素中的每一个包括：

微型透镜；

浮置扩散区域；和

光电转换区域，被配置为接收通过微型透镜的光并耦合到浮动扩散区域，

其中，第一像素的光电转换区域的光入射表面由形成在沟槽中的光屏蔽结构分成四个子区域，所述沟槽在俯视图中具有十字形状。

7.根据权利要求6所述的成像装置，

其中，第二像素的光电转换区域的光入射表面未被沟槽分成四个子区域。

8.根据权利要求6所述的成像装置，

其中，分开的四个子区域的尺寸设置得不均匀。

9.根据权利要求6所述的成像装置，其中，金属材料被布置在所述沟槽中。

10.根据权利要求6所述的成像装置，其中，所述第一像素包括四个光电二极管，并且其中，所述光屏蔽结构将所述第一像素的所述四个光电二极管彼此分开。

11.一种成像装置，包括：

像素阵列单元，包括第一像素和第二像素，其中，所述第一像素是相差像素，所述第二像素是成像像素；和

列处理单元，

其中，第一像素和第二像素中的每一个包括：

微型透镜；

浮置扩散区域；和

光电转换区域，被配置为接收通过微型透镜的光并耦合到浮动扩散区域，

其中，第一像素的光电转换区域的光入射表面由形成在沟槽中的光屏蔽结构分成四个子区域，所述沟槽具有中心带有十字的正方形形状。

12.根据权利要求11所述的成像装置，

其中，第二像素的光电转换区域的光入射表面未被沟槽分成四个子区域。

13.根据权利要求11所述的成像装置，

其中，分开的四个子区域的尺寸设置得不均匀。

14.根据权利要求11所述的成像装置，其中，金属材料被布置在所述沟槽中。

15.根据权利要求11所述的成像装置，其中，所述第一像素包括四个光电二极管，并且其中，所述光屏蔽结构将所述第一像素的所述四个光电二极管彼此分开。