[发明专利]一种真空蒸发镀膜方法、混合物、制备光学薄膜的方法

说明书

本申请公开了一种真空蒸发镀膜方法、混合物、制备光学薄膜的方法，所述方法包括：在真空蒸发设备中设置蒸镀材料及热传导材料；对所述蒸镀材料及热传导材料进行加热，以使得所述蒸镀材料蒸发至待成膜区域成膜，所述热传导材料留置于所述真空蒸发设备中。通过上述方式，本申请能够提高成膜表面的光洁度。

技术领域

本申请涉及镀膜技术领域，特别是涉及一种真空蒸发镀膜方法、混合物、制备光学薄膜的方法。

背景技术

纳米结构色晶体是指光学薄膜颜料片，是由光学薄膜粉碎制成。光学薄膜一般在基板上形成，而为了提高生产效率，常常会在基板上制备多层光学薄膜，多层光学薄膜之间用牺牲层(或脱膜层)隔开，后期只需去除牺牲层即可获得光学薄膜。

本申请的发明人在长期研究过程中发现，现有技术中形成牺牲层的方法一般为真空蒸发镀膜方法，在蒸镀材料蒸发过程中，往往会发生爆沸或者飞溅，使得所形成的牺牲层表面光洁度低，进而影响后续在牺牲层表面形成的光学膜层的表面光洁度。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种真空蒸发镀膜方法、混合物、制备光学薄膜的方法，能够提高膜层表面光洁度。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种真空蒸发镀膜方法，所述方法包括：在真空蒸发设备中设置蒸镀材料及热传导材料；对所述蒸镀材料及热传导材料进行加热，以使得所述蒸镀材料蒸发至待成膜区域成膜，所述热传导材料留置于所述真空蒸发设备中。

其中，所述热传导材料和所述蒸镀材料的熔点在300℃～2500℃，且所述热传导材料的熔点大于所述蒸镀材料的沸点。

其中，所述热传导材料与所述蒸镀材料混合为一体，且两者之间的质量比为1:2～2:1。

其中，所述热传导材料和所述蒸镀材料分别包括氯化钠、碘化钠、硫酸钠、硫酸钾、溴化钾、溴化钠、三氧化二铝、碘化锌、硝酸钠中至少一种。

其中，所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠；或者，所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为硫酸钠；所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为溴化钠；或者，所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠和溴化钠的混合物；或者，所述热传导材料为氯化钠、所述蒸镀材料为碘化锌；或者，所述热传导材料为硫酸钠、所述蒸镀材料为硝酸钠。

为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种真空蒸发镀膜用混合物，所述混合物包括蒸镀材料和热传导材料，在加热条件下，所述热传导材料能够将热量均匀稳定地传导至所述蒸镀材料，使所述蒸镀材料蒸发至待成膜区域成牺牲层，而留下所述热传导材料。

其中，所述热传导材料和所述蒸镀材料的熔点在300℃～2500℃，且所述热传导材料的熔点大于所述蒸镀材料的沸点，所述热传导材料与所述蒸镀材料混合为一体，且两者之间的质量比为1:2～2:1。

其中，所述热传导材料和所述蒸镀材料分别包括氯化钠、碘化钠、硫酸钠、硫酸钾、溴化钾、溴化钠、三氧化二铝、碘化锌、硝酸钠中至少一种。

其中，所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠；或者，所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为硫酸钠；所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为溴化钠；或者，所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠和溴化钠的混合物；或者，所述热传导材料为氯化钠、所述蒸镀材料为碘化锌；或者，所述热传导材料为硫酸钠、所述蒸镀材料为硝酸钠。

为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种制备光学薄膜的方法，所述方法包括：提供基板；在所述基板一侧利用上述任一实施例所述的真空蒸发镀膜方法形成第一牺牲层，所述第一牺牲层由所述蒸镀材料形成；在所述第一牺牲层远离所述基板一侧形成第一光学薄膜；去除所述第一牺牲层以剥离得到所述第一光学薄膜。