[发明专利]一种真空蒸发镀膜方法、混合物、制备光学薄膜的方法

权利要求书

1.一种真空蒸发镀膜方法，其特征在于，所述方法包括：

在真空蒸发设备中设置蒸镀材料及热传导材料；

对所述蒸镀材料及热传导材料进行加热，以使得所述蒸镀材料蒸发至待成膜区域成膜，所述热传导材料留置于所述真空蒸发设备中。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述热传导材料和所述蒸镀材料的熔点在300℃～2500℃，且所述热传导材料的熔点大于所述蒸镀材料的沸点。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述热传导材料与所述蒸镀材料混合为一体，且两者之间的质量比为1:2～2:1。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述热传导材料和所述蒸镀材料分别包括氯化钠、碘化钠、硫酸钠、硫酸钾、溴化钾、溴化钠、三氧化二铝、碘化锌、硝酸钠中至少一种。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠；或者，

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为硫酸钠；

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为溴化钠；或者，

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠和溴化钠的混合物；或者，

所述热传导材料为氯化钠、所述蒸镀材料为碘化锌；或者，

所述热传导材料为硫酸钠、所述蒸镀材料为硝酸钠。

6.一种真空蒸发镀膜用混合物，其特征在于，所述混合物包括蒸镀材料和热传导材料，在加热条件下，所述热传导材料能够将热量均匀稳定地传导至所述蒸镀材料，使所述蒸镀材料蒸发至待成膜区域成牺牲层，而留下所述热传导材料。

7.根据权利要求6所述的混合物，其特征在于，所述热传导材料和所述蒸镀材料的熔点在300℃～2500℃，且所述热传导材料的熔点大于所述蒸镀材料的沸点，所述热传导材料与所述蒸镀材料混合为一体，且两者之间的质量比为1:2～2:1。

8.根据权利要求6所述的混合物，其特征在于，所述热传导材料和所述蒸镀材料分别包括氯化钠、碘化钠、硫酸钠、硫酸钾、溴化钾、溴化钠、三氧化二铝、碘化锌、硝酸钠中至少一种。

9.根据权利要求6所述的混合物，其特征在于，

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠；或者，

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为硫酸钠；

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为溴化钠；或者，

所述热传导材料为三氧化二铝、所述蒸镀材料为氯化钠和溴化钠的混合物；或者，

所述热传导材料为氯化钠、所述蒸镀材料为碘化锌；或者，

所述热传导材料为硫酸钠、所述蒸镀材料为硝酸钠。

10.一种制备光学薄膜的方法，其特征在于，所述方法包括：

提供基板；

在所述基板一侧利用上述权利要求1-5任一项所述的真空蒸发镀膜方法形成第一牺牲层，所述第一牺牲层由所述蒸镀材料形成；

在所述第一牺牲层远离所述基板一侧形成第一光学薄膜；

去除所述第一牺牲层以剥离得到所述第一光学薄膜。