[发明专利]冷却装置及废气处理系统在审
申请号: | 201811346311.8 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN111172514A | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 张新云 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/18 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 102200 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 冷却 装置 废气 处理 系统 | ||
本发明提供的冷却装置和废气处理系统,包括冷却腔体、冷却结构和清除结构,其中,冷却腔体中设置有通道,用以通入待冷却气体,冷却结构包括至少一个冷却板,冷却板设置在通道中,且将通道分割为多个子通道,清除结构设置在子通道中,用于清除在冷却过程中凝结在子通道内壁上的冷凝物。通过设置清除结构,避免冷凝物的在子通道中累积,从而延长冷却装置的使用寿命,提高废气处理效果。
技术领域
本发明属于废气处理领域,具体涉及一种冷却装置及废气处理系统。
背景技术
GaAs薄膜太阳能电池需要通过MOCVD方式生产制造,太阳能电池片的晶体生长源的材料包含AsH3和PH3等。MOCVD设备在工艺过程中,产生的尾气含有大量未参加反应的AsH3、PH3以及含砷化合物,因而需要对尾气中的AsH3、PH3以及含砷化合物进行废气处理。
作为一种常见的废气处理方法,先通过高温热分解的方式使废气中的AsH3和PH3分解,分别分解为As和H2、P和H2,然后对生成物冷却降温,使气体中的As和P等粉尘冷凝,以清理废气中的有毒物质。
图1为现有技术中一种常见的冷却装置的结构示意图。如图1所示,冷却装置包括冷却腔体100和设置在冷却腔体外周壁上的冷却水道200,通过向冷却水道中通入冷却介质,以对流经冷却腔体的流体进行冷却,使热分解后的冷凝物凝结在冷却腔体的内壁上。
但是,上述冷却装置存在如下问题:随着使用时长的累积,凝结在冷却腔体的内壁上的冷凝物逐渐增多,冷凝物的增加阻碍了冷却水道对通道中的流体的冷却效果,导致通过冷却装置的气体中的有毒物质不能被充分冷凝,导致有毒物质随气体流出冷却装置,影响废气处理效果。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种能够清除冷凝物,进而提高废气处理效果的冷却装置及废气处理系统。
为解决上述问题,本发明提供了一种冷却装置,其包括:
冷却腔体,所述冷却腔体中设置有通道,用以通入待冷却气体;
冷却结构,所述冷却结构包括至少一个冷却板,所述冷却板设置在所述通道中,且将所述通道分割为多个子通道;
清除结构,设置在所述子通道中,用于清除在冷却过程中凝结在所述子通道的内壁上的冷凝物。
其中,所述清除结构包括:
清除件,设置在所述子通道中;
驱动源,用于驱动所述清除件移动,并在移动过程中刮除所述冷凝物。
其中,所述驱动源为旋转驱动源,所述清除结构还包括旋转轴,所述旋转驱动源通过所述旋转轴连接所述清除件;或者,
所述驱动源为直线驱动源,用于驱动所述清除件在所述通道中往复移动。
其中,所述通道的侧壁为平面,所述清除件在平行于所述通道的侧壁的平面内旋转。
其中,所述冷却板中设置有第一冷却水路,通过向所述第一冷却水路中通入冷却水,以对流经所述通道的待冷却气体进行冷却;
其中,所述清除件的数量为多个,并且,每个所述子通道中设置一个所述清除件。
其中,所述清除件上设置有供所述待冷却气体穿过的气体避让孔。
其中,在所述冷却腔体中设置第二冷却水路,通过向所述第二冷却水路中通入冷却水,以对流经所述通道的待冷却气体进行冷却。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的