[发明专利]一种基于QLED发光器件的压力传感器

权利要求书

1.一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述压力传感器包括接电基板（170）、功能基板（110）；所述接电基板和功能基板均为PET柔性基板；所述接电基板上覆有电极层（160）；所述功能基板上覆有ITO层；所述ITO层上覆有功能层；所述功能层包括多个分层；功能层的多个分层自下而上依次包括空穴注入层（120）、空穴传输层（130）、发光层（140）和电子传输层（150）；所述功能层以空穴注入层与功能基板的ITO层接触；功能层的电子传输层与电极层紧邻；当接电基板或功能基板受压时，受压部位形变使得电极层与电子传输层的接触状态变化，电极层电荷到达发光层使得受压部位的发光层发光；

当用于压力检测时，压力需达到预设值后，电极层才能与电子传输层接触，使所述压力传感器发光。

2.根据权利要求1所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述压力传感器的制备过程包括功能基板制备、接电基板制备和基板装配；

所述功能基板的制备过程依次包括以下作业；

S1、对覆有ITO的PET柔性基板进行预处理；

S2、在PET柔性基板上通过旋涂或刮涂的方法形成功能层的各个分层；制成功能基板；

所述接电基板的制备包括以下作业；

S3：在没有涂覆ITO的PET柔性基板上以镀膜工艺形成金属电极或者以旋涂/刮涂工艺形成薄膜电极；

所述基板装配包括以下作业；

S4：将已附着有电极的柔性PET基板倒扣在已形成各功能层的PET基板上，并对在四周用封装材料加以固定。

3.根据权利要求2所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述对覆有ITO的PET柔性基板进行的预处理包括清洗处理和等离子处理。

4.根据权利要求2所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述形成金属电极的工艺为蒸发镀膜，所述形成薄膜电极的工艺为旋涂工艺或刮涂工艺，所述薄膜电极为金属纳米线薄膜电极。

5.根据权利要求1所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述功能层的各个分层呈薄膜形；所述功能层的各个分层采用旋涂或者刮涂方法成型。

6.根据权利要求1所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述发光层以QLED发光件发光；所述QLED发光件为量子点。

7.根据权利要求1所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述功能基板的ITO层的方阻为320 Ω/□。

8.根据权利要求1所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述接电基板上的电极层为以镀膜工艺成型的银电极层。

9.根据权利要求8所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述银电极层的厚度范围为100-200nm。

10.根据权利要求1所述的一种基于QLED发光器件的压力传感器，其特征在于：所述空穴注入层选用PEDOT：PSS溶液旋涂成膜制备；所述空穴传输层以TFB溶液旋涂成膜制备；所述发光层以量子点溶液旋涂成膜制备；所述电子传输层以氧化锌纳米颗粒溶液旋涂成膜制备。