[发明专利]像素结构及其制备方法、显示器件

说明书

本发明涉及一种像素结构及其制备方法、显示器件。其中，像素结构包括：TFT基板；像素定义层，包括形成于所述TFT基板上的像素定义层主体和像素隔离柱；所述像素定义层主体上设有多个第一像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述第一像素凹槽内并将所述第一像素凹槽至少分隔成两个第二像素凹槽，且所述像素定义层主体的高度大于所述像素隔离柱的高度；所述像素定义层主体远离所述TFT基板的表面、及所述像素隔离柱远离所述TFT基板的表面均经过氟等离子体处理形成疏水层。该能实现高分辨率显示器件的印刷。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种像素结构及其制备方法、显示器件。

背景技术

市场对显示器分辨率的要求越来越高，高分辨率的像素图案化技术对于显示器来说是一项至关重要的技术。目前，喷墨打印技术正在发展成为下一代的OLED像素图案化技术。

在印刷工艺中，需要制备像素定义层(pixel definition layer，PDL，或者被称为Bank)，常用的bank制备采用黄光工艺，利用曝光显影等工艺来形成深度统一、形状基本固定的像素凹槽，用作容纳印刷墨水的“容器”。由于受打印设备精度以及墨水液滴尺寸的影响，对于传统的RGB条状排列的像素结构，很难实现高分辨率显示器件的制备。虽然，通过将相连像素的子像素共用掩膜(mask)上的开口，可以有效提高显示器件的分辨率，但是随着分辨率的增大，各子像素的尺寸就会减小，相应地各子像素凹槽的体积变小，像素凹槽内的墨水还是会因为体积变小而溢出像素凹槽，与相邻不同颜色的子像素发生颜色串扰，引起显示效果下降。

而且，为了使像素凹槽内的印刷墨水干燥之后形成厚度均匀的薄膜，通常要求bank的上端具有疏水性，下端具有亲水性，像素定义层各个部位对材料的亲疏水特性有特定要求，因此，要满足高分辨率显示器件的印刷要求，像素结构还需要改进和发展。

发明内容

基于此，有必要提供一种像素结构，能够解决因显示器件分辨率增大而引起像素面积减小、墨水外溢造成颜色串扰以及成膜不均匀的问题。

一种像素结构，包括：

TFT基板；

像素定义层，包括形成于所述TFT基板上的像素定义层主体和像素隔离柱；所述像素定义层主体上设有多个第一像素凹槽，所述像素隔离柱位于所述第一像素凹槽内并将所述第一像素凹槽至少分隔成两个第二像素凹槽，且所述像素定义层主体的高度大于所述像素隔离柱的高度；

所述像素定义层主体远离所述TFT基板的表面、及所述像素隔离柱远离所述TFT基板的表面均经过氟等离子体处理形成疏水层。

本发明上述像素结构，一方面所述像素隔离柱将所述第一像素凹槽至少分隔成两个第二像素凹槽，且所述像素定义层主体的高度大于所述像素隔离柱的高度，从而位于第一像素凹槽的多个同种颜色的子像素可以一起共用第一像素凹槽的开口，同时进行打印，从而成倍的增大了墨水的沉积区域，因此可以有效减小各子像素的尺寸，同时保证墨水不会因子像素面积过小而发生溢出，弥补打印设备机械精度不足；另一方面，经过氟等离子体表面处理能有效控制像素定义层不同部位对亲疏水特性的要求，能够有效控制钉扎点的高度，有利于后续打印墨水的铺展及成膜后的均匀性控制，提高成膜均匀性，利于实现高分辨率显示器件的印刷。

在其中一个实施例中，所述像素定义层主体高于所述像素隔离柱的部分侧壁也经过氟等离子体处理形成疏水层。

在其中一个实施例中，所述像素定义层主体的高度为0.8μm～1.5μm，所述像素隔离柱的高度为0.2μm～0.5μm。

在其中一个实施例中，所述像素隔离柱的侧壁与所述TFT基板的夹角为25°～65°。

进一步地，所述像素隔离柱的侧壁与所述TFT基板的夹角为45°～55°。