[发明专利]激光晶化装置

说明书

本发明涉及一种激光晶化装置，根据本发明的实施例的激光晶化装置包括：光源部，产生激光束形态的多束输入光；光学系统，将从所述光源部接收的所述输入光转换为至少一束输出光；以及台面，安置有对象基板，并且被照射所述输出光，所述光学系统包括：混合部，将入射的光分割及混合；第一偏光调制部，在光路径上布置于所述光源部以及所述混合部之间；加工部，在所述光路径上布置于所述混合部的后方，并且形成所述输出光；以及第二偏光调制部，在所述光路径上布置于所述加工部以及所述混合部之间，并包括至少一个四分之一波长板。

技术领域

本发明涉及一种激光晶化装置，尤其涉及一种提高了激光束的稳定性的激光晶化装置。

背景技术

通常，显示装置等电气电子元件通过薄膜晶体管来被驱动。为了将具有高的移动度等优点的晶体硅用作薄膜晶体管的活性层，需要进行一种将非晶质多晶薄膜，例如，非晶硅薄膜晶化的过程。

为了将非晶硅薄膜晶化为晶体硅薄膜，需要以预定的能量照射激光。

发明内容

本发明的目的在于提供一种提高激光束的稳定性的激光晶化装置。

根据本发明的实施例的激光晶化装置包括：光源部，产生激光束形态的至少一束输入光；光学系统，将从所述光源部接收的所述输入光转换为至少一束输出光；以及台面，安置有对象基板，并且被照射所述输出光，所述光学系统包括：混合部，包括至少一个分束器和至少一个镜子，并将入射的光分割为多束光；第一偏光调制部，在光路径上布置于所述光源部以及所述混合部之间，并包括使入射的光的一部分延迟λ/4的至少一个四分之一波长板；加工部，在所述光路径上布置于所述混合部的后方，并包括至少一个透镜，且形成所述输出光；以及第二偏光调制部，在所述光路径上布置于所述加工部以及所述混合部之间，并包括使从所述混合部提供的光的一部分延迟λ/4的至少一个四分之一波长板。

所述第一偏光调制部将入射的线偏振光状态的光转换为圆偏振光状态，所述第二偏光调制部将入射的圆偏振光状态的光转换为线偏振光状态。

所述输入光是固体激光。

所述光学系统还包括：第三偏光调制部，在所述光路径上布置于所述第二偏光调制部及所述加工部之间，并改变从所述第二偏光调制部提供的光的偏光方向。

所述第三偏光调制部包括至少一个半波长板。

所述第三偏光调制部还包括：半波长驱动器，接收电信号而控制所述半波长板的光轴。

所述光学系统还包括：第四偏光调制部，在所述光路径上布置于所述第一偏光调制部及所述光源部之间，并将从所述光源部提供的所述输入光转换为线偏振光状态。

所述输入光是准分子激光。

所述第四偏光调制部包括至少一个直线偏光器。

定义为被所述第一偏光调制部转换为圆偏振光状态的光的先调制光入射到所述混合部，所述混合部包括：第一镜子，改变所述先调制光的方向；第一分束器，反射所述先调制光的一部分反射，并使其余的一部分投脱，从而将所述先调制光分割为多束混合光；以及第二镜子，改变由所述第一分束器分割的混合光中的至少一部分的方向。

所述加工部将入射的多束光合成而形成所述至少一束输出光。

所述加工部分别具有由多个透镜排列而成的板形状，并且包括：至少一个匀化器(Homogenizer)，用于使入射的光匀化；以及至少一个圆柱透镜(Cylindrical lens)，调节通过所述匀化器的光的大小和焦点，从而形成线形态的光。