[发明专利]一种激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层的方法

权利要求书

1.一种H13钢激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层,其特征在于包含如下步骤：

1)对基体进行调质处理、机械抛光和清洗后，利用激光熔覆在基体表面制备Cr-Ni涂层；

2)利用阴极电弧离子镀在Cr-Ni涂层表面制备TiAlN涂层，在基体表面形成TiAlN/Cr-Ni涂层。

2.如权利要求1所述的激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层的方法，其特征在于，所述步骤1)中调质处理方式为1080℃油淬和250℃的低温回火处理。

3.如权利要求1所述的激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层的方法，其特征在于，所述步骤1)中的清洗为使用丙酮进行的超声清洗,清洗时间为15min。

4.如权利要求1所述的激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层的方法，其特征在于，所述步骤1)中激光功率为1400W，光斑直径为4mm，速度为10m/s，激光熔覆头与基体距离为30cm，氩气为保护气体。

5.如权利要求1所述的激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层的方法，其特征在于，所述步骤1)中基体表面形成一层厚度约为450μm的Cr-Ni涂层，涂层与基体间的元素相互扩散，形成良好的冶金结合方式。

6.如权利要求1所述的激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层的方法，其特征在于，所述步骤2)中使用纯度为99.99％的高纯Ti靶和高纯Al靶，原子比＝1：1，直径为80mm。

7.如权利要求1所述的激光熔覆与阴极电弧离子镀复合制备TiAlN/Cr-Ni涂层的方法，其特征在于，所述步骤2)中通入高纯Ar气，对基体表面进行弧光轰击清洗，其中，设置负偏压为100V，清洗时间为15min。