[发明专利]一种石英晶体微天平湿度传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811188404.2 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN109507059B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 廖广兰;林建斌;谭先华;方涵;史铁林;汤自荣 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01N5/02 分类号: G01N5/02
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 张彩锦;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 石英 晶体 天平 湿度 传感器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1在石英晶体微天平上沉积一层ZnO催化层;

S2在ZnO催化层上沉积一层Cu种子层,用于后续生长纳米线作为湿敏层材料;

S3将沉积有ZnO催化层和Cu种子层的石英晶体微天平置于NaOH和(NH4)2S2O8的混合溶液中,通过Cu种子层与混合溶液的反应并在ZnO催化层的作用下,以在ZnO催化层上生长超致密超亲水Cu(OH)2纳米线,从而获得石英晶体微天平湿度传感器,为保证生长出所需致密度的纳米线,且避免形成CuO纳米片结构,Cu(OH)2纳米线的生长时间为0.5min~60min。

2.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,步骤S1中,采用磁控溅射法沉积ZnO催化层和Cu种子层。

3.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层的沉积厚度为0.2μm~5μm。

4.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层的沉积厚度为2μm。

5.根据权利要求1或2所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,Cu种子层的沉积厚度为0.025μm~1μm。

6.根据权利要求1或2所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,Cu种子层的沉积厚度为0.2μm。

7.根据权利要求1-3任一项所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层和Cu种子层为单面或双面。

8.根据权利要求1-3任一项所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于, ZnO催化层和Cu种子层为双面。

9.根据权利要求2所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层的磁控溅射为射频模式,功率为50W~500W,磁控溅射的真空度为0.1Pa~3Pa;Cu种子层的磁控溅射为直流模式或射频模式,功率为50W~500W,磁控溅射的真空度为0.1Pa~3Pa。

10.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,步骤S3中,NaOH和(NH4)2S2O8的摩尔质量比为50:1~5:1。

11.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,步骤S3中,NaOH和(NH4)2S2O8的摩尔质量比为25:1。

12.一种石英晶体微天平湿度传感器,其特征在于,采用如权利要求1-11任一项所述的制备方法制得。

13.根据权利要求12所述的石英晶体微天平湿度传感器,其特征在于,该石英晶体微天平湿度传感器包括石英晶体微天平、设于所述石英晶体微天平正面和/或背面的ZnO催化层以及生长于所述ZnO催化层上的超致密超亲水纳米线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811188404.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top