[发明专利]一种石英晶体微天平湿度传感器及其制备方法有效
申请号: | 201811188404.2 | 申请日: | 2018-10-12 |
公开(公告)号: | CN109507059B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 廖广兰;林建斌;谭先华;方涵;史铁林;汤自荣 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01N5/02 | 分类号: | G01N5/02 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 张彩锦;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石英 晶体 天平 湿度 传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1在石英晶体微天平上沉积一层ZnO催化层;
S2在ZnO催化层上沉积一层Cu种子层,用于后续生长纳米线作为湿敏层材料;
S3将沉积有ZnO催化层和Cu种子层的石英晶体微天平置于NaOH和(NH4)2S2O8的混合溶液中,通过Cu种子层与混合溶液的反应并在ZnO催化层的作用下,以在ZnO催化层上生长超致密超亲水Cu(OH)2纳米线,从而获得石英晶体微天平湿度传感器,为保证生长出所需致密度的纳米线,且避免形成CuO纳米片结构,Cu(OH)2纳米线的生长时间为0.5min~60min。
2.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,步骤S1中,采用磁控溅射法沉积ZnO催化层和Cu种子层。
3.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层的沉积厚度为0.2μm~5μm。
4.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层的沉积厚度为2μm。
5.根据权利要求1或2所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,Cu种子层的沉积厚度为0.025μm~1μm。
6.根据权利要求1或2所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,Cu种子层的沉积厚度为0.2μm。
7.根据权利要求1-3任一项所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层和Cu种子层为单面或双面。
8.根据权利要求1-3任一项所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于, ZnO催化层和Cu种子层为双面。
9.根据权利要求2所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,ZnO催化层的磁控溅射为射频模式,功率为50W~500W,磁控溅射的真空度为0.1Pa~3Pa;Cu种子层的磁控溅射为直流模式或射频模式,功率为50W~500W,磁控溅射的真空度为0.1Pa~3Pa。
10.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,步骤S3中,NaOH和(NH4)2S2O8的摩尔质量比为50:1~5:1。
11.根据权利要求1所述的石英晶体微天平湿度传感器的制备方法,其特征在于,步骤S3中,NaOH和(NH4)2S2O8的摩尔质量比为25:1。
12.一种石英晶体微天平湿度传感器,其特征在于,采用如权利要求1-11任一项所述的制备方法制得。
13.根据权利要求12所述的石英晶体微天平湿度传感器,其特征在于,该石英晶体微天平湿度传感器包括石英晶体微天平、设于所述石英晶体微天平正面和/或背面的ZnO催化层以及生长于所述ZnO催化层上的超致密超亲水纳米线。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811188404.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种往复式微动磨损试验机
- 下一篇:一种间歇自动采样粉体水分测量装置