[发明专利]一种光刻镜片的制作方法和镜头有效

专利信息
申请号: 201811155427.3 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN109143795B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 陈杰峰 申请(专利权)人: 联想(北京)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B3/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张振伟;张颖玲
地址: 100085*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 镜片 制作方法 镜头
【说明书】:

发明实施例公开了一种光刻镜片的制作方法和镜头,其中,所述方法包括:在基材的表面上涂覆光刻材料;利用光刻掩膜板对光刻材料进行刻蚀;其中,所述光刻掩膜板上具有多个具有预设的形状的掩膜图形,在每一所述掩膜图形上不同位置的透光率不同;对刻蚀后的光刻材料进行固化处理,得到光刻镜片。

技术领域

本发明涉及光学镜头技术领域,尤其涉及一种光刻镜片的制作方法和镜头。

背景技术

镜头是将拍摄景物在传感器上成像的器件,相当于相机的“眼睛”,通常由几片透镜组成,光线通过时,镜片们会层层过滤杂光(红外线等),所以,镜头片数越多,成像就越真实。目前对焦镜头里,都是使用凸透镜和凹透镜的组合,利用光的折射原理,把光导到传感器的成像面上。为了更加镜头解析力与对比度并保证画面质量,给镜头的片数和结构带来了一定的限制,导致镜头的厚度无法做薄,不满足当前设备的轻薄要求。

发明内容

有鉴于此,本发明实施例为解决现有技术中存在的问题而提供一种光刻镜片的制作方法和镜头。

本发明实施例的技术方案是这样实现的:

一方面,本发明实施例提供一种光刻镜片的制作方法,所述方法包括:

在基材的表面上涂覆光刻材料;

利用光刻掩膜板对光刻材料进行刻蚀;其中,所述光刻掩膜板上具有多个具有预设的形状的掩膜图形,在每一所述掩膜图形上不同位置的透光率不同;

对刻蚀后的光刻材料进行固化处理,得到光刻镜片。

另一方面,本发明实施例提供一种镜头,所述镜头至少包括沿物方到镜方共轴设置的第一镜片、第二镜片和第三镜片,其中:

第一镜片用于将入射光线进行聚光;

第二镜片用于将经过所述第一镜片的入射光进行均匀发散,形成平行于轴向的光;

第三镜片用于将经过第二镜片的入射光进行聚光,使得聚光后的光线照射到感光芯片。

本发明实施例提供一种光刻镜片的制作方法和镜头,其中,首先在基材的表面上涂覆光刻材料;利用光刻掩膜板对光刻材料进行刻蚀;其中,所述光刻掩膜板上具有多个具有预设的形状的掩膜图形,在每一所述掩膜图形上不同位置的透光率不同;对刻蚀后的光刻材料进行固化处理,得到光刻镜片;如此,能够利用光刻技术做出具有一个个小槽的光刻镜片,从而利用小槽引导光路,进而能够减少镜头中镜片的片数,降低镜头的高度。

附图说明

图1a为本申请实施例相关技术中镜头的镜片组成示意图;

图1b分别为本申请实施例相关技术中又一镜头的镜片组成示意图;

图2为本发明实施例一种光刻镜片的制作方法的实现流程示意图;

图3为本发明实施例另一种光刻镜片的制作方法的实现流程示意图;

图4为本申请实施例光刻镜片的制作方法的实现流程示意图;

图5为本申请实施例光刻镜片的示意图;

图6为本申请实施例又一光刻镜片的示意图;

图7为本申请实施例镜头的组成结构示意图;

图8为通过本申请实施例提供的镜头的光路示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明的技术方案进一步详细阐述。

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