[发明专利]离子植入机及离子源发生装置在审

专利信息
申请号: 201811131449.6 申请日: 2018-09-27
公开(公告)号: CN109300758A 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 薛小帅;洪纪伦;吴宗祐;林宗贤 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08;H01J37/317
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 薛异荣;吴敏
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 发生腔 离子植入机 电磁波源 发生装置 离子源 电磁波 天线 等离子体 气体发生 天线连接 磁场源 侧壁 共振 穿过 延伸
【说明书】:

一种离子植入机及离子源发生装置,所述离子植入机中离子源发生装置包括:第一发生腔,第一发生腔内适于充入第一气体;位于第一发生腔周围的第一磁场源;天线,所述天线穿过第一发生腔的侧壁并延伸至第一发生腔内;位于所述第一发生腔外的电磁波源,所述电磁波源适于产生电磁波,所述电磁波源与所述天线连接,所述电磁波适于与第一气体发生共振而产生第一等离子体。所述离子植入机的性能得到提高。

技术领域

发明涉及离子植入技术,尤其涉及一种离子植入机及离子源发生装置。

背景技术

离子植入法是一种用于将改变材料导电性的离子引入工件(work piece)中的标准技术。进行离子植入采用的设备称为离子植入机。

离子植入机包括离子源。离子源提供具有规定能量的离子束,且将离子束引导至工件的表面处。离子束中的高能离子注入工件材料主体中,且嵌进工件材料中以形成具有所需导电性的区域。

然而,现有离子植入机的性能较低。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种离子植入机及离子源发生装置,以提高离子植入机的性能。

为解决上述问题,本发明提供一种离子源发生装置,包括:第一发生腔,第一发生腔内适于充入第一气体;位于第一发生腔周围的第一磁场源;天线,所述天线穿过第一发生腔的侧壁并延伸至第一发生腔内;位于所述第一发生腔外的电磁波源,所述电磁波源适于产生电磁波,所述电磁波源与所述天线连接,所述电磁波适于与第一气体发生共振而产生第一等离子体。

可选的,还包括:位于所述第一发生腔内的绝缘管套,所述绝缘管套包裹第一发生腔内的天线。

可选的,所述绝缘管套的材料包括陶瓷或石英。

可选的,所述电磁波源包括LC震荡器和交流电源,所述LC震荡器与天线连接,所述交流电源与LC震荡器连接。

可选的,所述电磁波源为微波发生源。

可选的,所述第一发生腔包括相对的第一腔壁和第二腔壁;所述天线在第一发生腔内的长度为第一腔壁至第二腔壁距离的4.5/5~3.5/5。

可选的,所述第一气体包括Ar或Xe;所述第一等离子体中具有电子;所述离子源发生装置还包括:第二发生腔,所述第二发生腔内适于充入第二气体;所述电子适于从第一发生腔引入第二发生腔中并与第二气体碰撞,以形成第二等离子体。

可选的,还包括:位于第二发生腔周围的第二磁场源。

可选的,所述第一发生腔包括第二腔壁,第二腔壁朝向所述第二发生腔,所述第二腔壁中具有贯穿第二腔壁的第一开口;所述第二发生腔包括第三腔壁,所述第三腔壁与所述第二腔壁相对设置,所述第三腔壁中具有贯穿第三腔壁的第二开口;所述离子源发生装置还包括:位于第一发生腔和第二发生腔之间的连接装置,所述连接装置分别与第二腔壁和第三腔壁连接固定;所述连接装置中具有贯穿连接装置的连接开口,所述连接开口分别与第一开口和第二开口贯通。

本发明还提供一种离子植入机,包括:工作腔;如上述任意一项所述的离子源发生装置,所述离子源发生装置位于所述工作腔中。

与现有技术相比,本发明的技术方案具有以下优点:

本发明技术方案提供的离子源发生装置中,所述电磁波源产生的电磁波通过天线引入至第一发生腔内,电磁波与第一发生腔内的第一气体共振,第一气体的分子失去电子被解离成第一等离子体,同时,第一磁场源适于束缚第一发生腔中电子的运动,这样使得第一气体的分子与电子之间的碰撞几率增加,提高了第一气体的离化率。综上,提高了离子源发生装置的性能。

其次,第一气体的离化率提高,使得无需经常更换电磁波源和天线等部件,离子源发生装置的寿命得到提高。

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