[发明专利]具有减少的基板颗粒产生的基板支撑设备

权利要求书

1.一种用于接触基板的设备，包括：

接触垫，所述接触垫可安装在支撑表面上，使得当支撑所述基板时，所述接触垫插置在所述基板与所述支撑表面之间，其中所述接触垫具有非硅基基板接触表面，具有防止所述基板滑动的静磨擦系数，并且当接触硅基材料时是非附着性的。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述接触垫是导电性的。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述接触垫的顶表面具有小于或等于10Ra的表面粗糙度。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述接触垫具有小于或等于所述基板的硬度的硬度。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述支撑表面为基板支撑件的一部分，且所述接触垫从所述基板支撑件突出。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述支撑表面为基板传送机械手的末端效应器的一部分。

7.如权利要求1至6中任一项所述的设备，其中所述接触垫为导电塑料。

8.如权利要求1至6中任一项所述的设备，其中所述接触垫包括氧化铝、氮化硅或不锈钢之一或更多者。

9.一种用于支撑基板的设备，包括：

支撑表面；和

多个基板接触元件，所述多个基板接触元件从所述支撑表面突出并被布置成支撑基板，其中所述多个基板接触元件由一非硅基材料形成，所述非硅基材料具有小于或等于硅的硬度的硬度，和在与硅基材料接触时防止滑动的静磨擦系数，其中所述多个基板接触元件为导电性的，并且其中所述非硅基材料包括导电塑料、氧化铝或不锈钢之一或更多者，使得当接触所述多个基板接触元件时，从基板产生的颗粒减少。

10.如权利要求9所述的设备，其中所述支撑表面为基板支撑件的一部分，且所述多个基板接触元件从所述基板支撑件突出。

11.如权利要求9所述的设备，其中所述支撑表面为基板支撑件的一部分，且所述多个基板接触元件包括设置于所述基板支撑件中的多个升降销。

12.如权利要求11所述的设备，其中所述多个升降销的每一者的上部由所述非硅基材料形成。

13.如权利要求11所述的设备，其中所述多个升降销的每一者整体地由所述非硅基材料形成。

14.如权利要求9所述的设备，其中所述支撑表面为基板传送机械手的一部分，且所述多个基板接触元件包括设置于所述基板传送机械手的末端效应器上的接触垫。