[发明专利]一种AMOLED面板

权利要求书

1.一种AMOLED面板，在其切割线与封装薄膜边界之间具有边缘区域，所述边缘区域从下至上依次包括：柔性衬底、缓冲层、第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层；其特征在于，在所述边缘区域中设置有防止无机膜裂纹扩展的结构，所述结构包括：

至少一列设置于所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层中的有机物沉积图案；

至少一列设置有所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层至少一层中的金属沉积图案。

2.如权利要求1所述的AMOLED面板，其特征在于，所述有机物沉积图案靠近所述切割线一侧，所述金属沉积图案靠近所述封装薄膜一侧。

3.如权利要求2所述的AMOLED面板，其特征在于，在所述有机物沉积图案之上进一步设置有第二层间介质层，所述第二层间介质层覆盖所有有机物沉积图案。

4.如权利要求3所述的防止AMOLED面板，其特征在于，所述每一列有机物沉积图案均与所述切割线平行，其包括多个贯通所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层的沉积孔，在所述沉积孔中填充有有机物；

所述每一列金属沉积图案与所述切割线平行，其包括多个沉积于所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层之一层中的金属膜块。

5.如权利要求4所述的AMOLED面板，其特征在于，在相邻两列有机物沉积图案中，所述沉积孔在纵向上交错设置；在相邻两列金属沉积图案中，所述金属膜块在纵向上交错设置。

6.如权利要求3所述的AMOLED面板，其特征在于，所述每一列有机物沉积图案均与所述切割线平行，其包括一条贯通所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层的沉积槽，在所述沉积槽中填充有有机物；

所述每一列金属沉积图案与所述切割线平行，其包括一条沉积于所述第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层之一层中的金属膜条。

7.如权利要求6所述的AMOLED面板，其特征在于，所述每一列有机物沉积图案与每一列金属沉积图案长度相同。

8.如权利要求1至7任一项所述的AMOLED面板，其特征在于，在所述切割线与最外侧的有机物沉积图案之间进一步设置有贯穿所述缓冲层、第一无机绝缘层、第二无机绝缘层以及第一层间介质层的阻挡结构。

9.如权利要求8所述的AMOLED面板中，其特征在于，所述金属沉积图案采用金属钼材料。