[发明专利]一种光学真空镀膜混合材料及其制备方法

说明书

本发明公开了一种光学真空镀膜混合材料的制备方法，包括以下步骤：分别打开真空包装后，按所需比例进行称量；先将称量好的二氧化硅缓慢导入搅拌机的搅拌槽内，然后再将称量好的氧化铝缓慢导入搅拌机的搅拌槽内，开启搅拌机电源，启动搅拌机，搅拌48‑72h，使物料搅拌充分均匀；停止搅拌后打开搅拌槽的卸料口，使用盛装容器来承接搅拌好的混合物；将搅拌好的混合物在造粒机中造粒；将造粒好的颗粒，装入真空烧结炉中烧结，真空达到1*10^‑3Pa，温度达到1300℃，烧结分段烧结，确保真空度、温度，烧结时间24小时后冷却；冷却至常温后，放真空取料、称重后真空包装。优点是：提高了其防污性、防创伤，使其耐酸、抗碱、耐腐蚀、耐高温。

技术领域

本发明涉及一种光学镀膜产品，尤其涉及一种光学真空镀膜混合材料，还涉及一种光学真空镀膜混合材料的制备方法。

背景技术

光学真空镀膜是一种耐酸、耐碱、抗腐蚀的耐高温材料。将该材料蒸镀在物体表面，该产品用于光学玻璃及其他金属、塑料物体表面，并可用于高级镜片镀膜、及手表、航空航天仪器仪表、光纤、电缆等，达到耐高温和盐雾气氛，但目前的硅铝混合物蒸镀材料的机械性能不是很稳定，使用寿命不长。光学镀膜是指可以改变光学组件的光学性质的镀膜，依照目的的不同、光学组件制造商需选用不同的材料进行镀膜。光学玻璃、金属、塑料产品常规镀膜工艺需使用离子源进行辅助镀膜，在整个镀膜工艺开发方面如真空度、膜层工艺参数控制不当容易出现膜层脱落及膜裂现象，且在镀膜过程中出现异常时导致整炉报废。在镀膜机台离子源使用耗材相当昂贵，镀膜效率较低。

发明内容

本发明的目的是：针对上述不足，提供一种光学真空镀膜混合材料及其制备方法。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：

一种光学真空镀膜混合材料，其真空镀膜混合材料包括二氧化硅和氧化铝，其中二氧化硅与氧化铝的比例为70％-90％：30％-10％。

一种光学真空镀膜混合材料的制备方法，包括以下步骤：

步骤一：分别打开装有二氧化硅的真空包装和装有氧化铝的真空包装后，按所需比例进行称量；

步骤二：先将称量好的二氧化硅缓慢导入搅拌机的搅拌槽内，然后再将称量好的氧化铝缓慢导入搅拌机的搅拌槽内，开启搅拌机电源，启动搅拌机，搅拌48-72h，使物料搅拌充分均匀；

步骤三：停止搅拌后打开搅拌槽的卸料口，使用盛装容器来承接搅拌好的混合物；

步骤四：将搅拌好的混合物在造粒机中造粒，并达到密度2.22g/cm³-2.4g/cm³；

步骤五：将造粒好的颗粒，装入真空烧结炉中烧结，真空达到1*10^-3Pa，温度达到1300℃，烧结分段烧结，确保真空度、温度，烧结时间24小时后冷却；

步骤六：冷却至常温后，放真空取料、称重后真空包装。

所需的操作环境为万级无尘车间，温度控制在24±3℃，相对湿度RH50％±10％

步骤三中的盛装容器选用玻璃容器，在搅拌机开启电源前将所述玻璃容器内使用无尘布及酒精来擦拭干净。

步骤六中使用不锈钢勺子分别往真空袋内进行分装，以电子称进行称量，每袋重1KG，并通过真空打包机进行抽真空、包装。