[发明专利]一种光学真空镀膜混合材料及其制备方法

权利要求书

1.一种光学真空镀膜混合材料，其特征在于：其真空镀膜混合材料包括二氧化硅和氧化铝，其中二氧化硅与氧化铝的比例为70％-90％：30％-10％。

2.一种光学真空镀膜混合材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一：分别打开装有二氧化硅的真空包装和装有氧化铝的真空包装后，按所需比例进行称量；

步骤二：先将称量好的二氧化硅缓慢导入搅拌机的搅拌槽内，然后再将称量好的氧化铝缓慢导入搅拌机的搅拌槽内，开启搅拌机电源，启动搅拌机，搅拌48-72h，使物料搅拌充分均匀；

步骤三：停止搅拌后打开搅拌槽的卸料口，使用盛装容器来承接搅拌好的混合物；

步骤四：将搅拌好的混合物在造粒机中造粒，并达到密度2.22g/cm³-2.4g/cm³；

步骤五：将造粒好的颗粒，装入真空烧结炉中烧结，真空达到1*10^-3Pa，温度达到1300℃，烧结分段烧结，确保真空度、温度，烧结时间24小时后冷却；

步骤六：冷却至常温后，放真空取料、称重后真空包装。

3.根据权利要求2所述的一种光学真空镀膜混合材料的制备方法，其特征在于：所需的操作环境为万级无尘车间，温度控制在24±3℃，相对湿度RH50％±10％。

4.根据权利要求2所述的一种光学真空镀膜混合材料的制备方法，其特征在于：步骤三中的盛装容器选用玻璃容器，在搅拌机开启电源前将所述玻璃容器内使用无尘布及酒精来擦拭干净。

5.根据权利要求2所述的一种光学真空镀膜混合材料的制备方法，其特征在于：步骤六中使用不锈钢勺子分别往真空袋内进行分装，以电子称进行称量，每袋重1KG，并通过真空打包机进行抽真空、包装。