[发明专利]可见及近红外光波段减反射膜及制造方法

说明书

本发明提供一种可见及近红外光波段减反射膜：包括从里到外依次设置第一层SiO₂层、第二层Ti₃O₅层、第三层SiO₂层、第四层Ti₃O₅层、第五层SiO₂层、第六层Ti₃O₅层、第七层SiO₂层、第八层Ti₃O₅层、第九层MgF₂层和第十层SiO₂层。本发明还提供一种可见及近红外光波段减反射膜制造方法，包括以下步骤：1)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术在基板上依次镀制第一层至第八层；2)、再使用离子束辅助沉积真空镀膜技术且不通氧气镀制第九层MgF₂层；3)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术镀制第十层SiO₂层。本发明选用常规三种材料进行设计，极薄层剔除，更容易控制，适合批量稳定生产；增加保护层，有利于生产后道清洗。

技术领域

本发明涉及的一种减反射膜，具体涉及一种可见及近红外光波段减反射膜及制造方法。

背景技术

减反射膜，也称增透膜，是一种应用最广的光学薄膜，用于减少光学元件表面的反射，提高工作波段光线的透光率，减少光能损失。照相机、显微镜、摄像机等光学元件通过镀减反射膜来提高光能量，增加光线透光率，改善光学元件成像质量。当前，夜间影像的使用及日夜两用型影像系统的不断增加，对减反射膜提出了更高要求：减反射膜不仅仅局限于可见光或者近红外区域，而且在可见光到近红外超宽光谱区域(400-1100nm)均提出高透光、低反射的要求。

然而，目前几乎所有的影像系统在白天光线充足的情况下能捕捉到清晰有用的图像，但夜晚成像则相对较差。而且为了隐蔽，绝大多数的现代影像系统在晚间需使用红外光源，红外光源的照度非常低，通常小于0.1lux。这就要求影像系统整体对于可见及红外区域的光源的透过性非常好，提出了开发可见光到近红外区域(400-1100nm)高透过率、低反射的高品质减反射膜的要求。另外，随着军用红外技术在大气光通讯方面的广泛应用，军用光学系统的光谱区域越来越宽，不仅要求覆盖红外区域，同时还要求覆盖可见光与近红外，这就使得具有高的透过率、波段覆盖范围广、可靠性好的高性能可见光与近红外波段的宽波段增透膜的研究成为必要。

随着光学薄膜设计、制备技术的不断提高，目前制造用于可见光区域的常规减反射膜已非常成熟，实际的特性可以非常接近甚至完全达到理论设计值。但是，由于超宽带减反射膜设计比较困难，或者由于其设计厚度的不规整性，导致控制误差大，难以达到理论的设计值，再或者为达到理论的设计，选取的膜层材料只可以作为理论的试验，难以达成规模化、稳定的批量生产。

因此，需要对现有技术进行改进。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种高效的可见及近红外光波段减反射膜及制造方法。

为解决上述技术问题，本发明提供一种可见及近红外光波段减反射膜：

包括从里到外依次设置第一层SiO₂层、第二层Ti₃O₅层、第三层SiO₂层、第四层Ti₃O₅层、第五层SiO₂层、第六层Ti₃O₅层、第七层SiO₂层、第八层Ti₃O₅层、第九层MgF₂层和第十层SiO₂层。

作为对本发明可见及近红外光波段减反射膜的改进：