[发明专利]一种可控分布的三维石墨烯的制备方法在审
申请号: | 201811022055.7 | 申请日: | 2018-09-04 |
公开(公告)号: | CN109019573A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 马一飞;王梅;韩杰敏;陈旭远;汪丽蓉;肖连团;贾锁堂 | 申请(专利权)人: | 山西大学 |
主分类号: | C01B32/186 | 分类号: | C01B32/186 |
代理公司: | 太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人: | 任林芳 |
地址: | 030006*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨烯 三维 可控 制备 等离子体增强化学气相沉积设备 深度反应离子刻蚀 电感耦合等离子 制备技术领域 多重体系 刻蚀过程 硅片 钝化 管式 基底 氧气 合成 生长 | ||
1.一种可控分布的三维石墨烯的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
第一步,依次使用去离子水、乙醇、丙酮清洗硅片,干燥后备用;
第二步,将干燥后的硅片放入电感耦合等离子多重体系中,先打开线圈电源,并调节线圈的输出功率,然后交替通入八氟环丁烷气体和六氟化硫气体,采用循环深度反应离子刻蚀方法,在不添加氧气的情况下,交替进行钝化和刻蚀过程,得到硅草;
第三步,依次使用去离子水、乙醇、丙酮清洗硅草,干燥后备用;
第四步,将干燥后的硅草作为基底,放入管式等离子体增强化学气相沉积设备的加热区域中央,调节射频电源线圈与加热区域之间的距离,关闭放气阀并抽真空,当真空度达到小于0.02 Torr时,开启加热区域电源升温,升温到设定温度后,持续通入氢气,3min后,开启射频电源,调节输出功率,继续还原硅草表面的氧化物质;
第五步,维持在第四步的设定温度以及持续通入氢气的条件下,3min后通入碳氢化合物,调节通入氢气的流速,调节射频电源的输出功率,生长材料,当达到设定的生长时间后,停止通入氢气和碳氢化合物,关闭射频电源以及加热区域电源,待温度降至25℃,打开放气阀,通入空气,得到生长三维石墨烯后的硅草。
2.根据权利要求1所述的一种可控分布的三维石墨烯的制备方法,其特征在于:第二步中所述线圈的输出功率为300-600W,八氟环丁烷气体流量为1-130sccm,六氟化硫气体流量为1-180sccm,交替时间为5-20s,交替次数为3次。
3.根据权利要求1所述的一种可控分布的三维石墨烯的制备方法,其特征在于:第四步中所述射频电源线圈与加热区域之间的距离为1-50cm,加热区域设定温度为400-900℃,氢气流量为0-30sccm,射频电源输出功率为100-300W。
4.根据权利要求1所述的一种可控分布的三维石墨烯的制备方法,其特征在于:第五步中所述碳氢化合物为甲烷、乙烯和乙炔中的一种或任意混合,流量为1-20sccm,射频电源的输出功率为50-500W,设定的生长时间为0.5-5h。
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