[发明专利]激光测量的校验方法、装置、系统、设备和存储介质有效
申请号: | 201811015335.5 | 申请日: | 2018-08-31 |
公开(公告)号: | CN108827157B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 贾玮 | 申请(专利权)人: | 广州视源电子科技股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黄隶凡 |
地址: | 510530 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 测量 校验 方法 装置 系统 设备 存储 介质 | ||
1.一种激光测量的校验方法,其特征在于,包括:
启动校验板上的用于发光的发光装置,并获取针对所述校验板进行拍摄得到的校验图像;
识别所述校验图像的多个校验点,并获取所述多个校验点的二维坐标;
根据所述多个校验点的二维坐标,计算内参矩阵和外参矩阵,作为所述校验图像的三维参数;
获取所述校验图像对应的激光图像,并识别所述激光图像的激光点;
根据所述校验图像对应的三维参数,获取所述激光点的三维坐标;
根据所述激光点的三维坐标,拟合三维激光平面;所述三维激光平面用于校验测量精度;
所述识别所述激光图像的激光点,包括:在所述激光图像中提取原始激光点;采用所述校验图像的畸变校正参数,对所述原始激光点进行畸变校正,得到校正激光点;对所述校正激光点进行去噪,得到候选激光点;获取二维坐标符合设定的坐标范围的候选激光点,作为所述激光点。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述三维参数包括内参矩阵和外参矩阵,所述根据所述校验图像对应的三维参数,获取所述激光点的三维坐标,包括:
获取所述激光点的二维坐标;
根据所述内参矩阵和外参矩阵,将所述二维坐标转换为三维坐标,作为所述激光点的三维坐标。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述根据所述校验图像对应的三维参数,获取所述激光点的三维坐标之前,还包括:
识别所述校验图像的多个校验点;
获取所述多个校验点的二维坐标;
根据所述多个校验点的二维坐标,计算所述内参矩阵和所述外参矩阵,作为所述三维参数。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光图像具有多个,所述根据所述激光点的三维坐标,拟合三维激光平面,包括:
获取多个激光图像的激光点,得到多组激光点;
根据所述多组激光点的三维坐标,生成多个三维激光点;
合成所述多个三维激光点,得到所述三维激光平面。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述三维参数还包括畸变校正参数,所述对所述校正激光点进行去噪,得到候选激光点,包括:
通过RANSAC直线拟合,对所述校正激光点进行去噪处理,将余下的校正激光点作为所述候选激光点。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,还包括:
识别所述多个校验点的图像特征;
筛选图像特征符合预设图像特征的校验点,作为目标校验点;
采用所述目标校验点的二维坐标,生成所述坐标范围。
7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述在所述激光图像中提取原始激光点,包括:
识别所述激光图像的多个像素点;
对所述多个像素点进行上采样,得到多个采样像素点;
计算所述多个采样像素点的卷积值;
在同一列的采样像素点中,确定最大卷积值的采样像素点,作为所述原始激光点。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述获取校验图像之前,还包括:
生成发光信息;
发送所述发光信息至校验板;所述校验板用于根据所述发光信息启动发光装置;所述发光装置用于发光。
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