[发明专利]一种带有铜冷却装置的阴极平台

说明书

本发明公开了一种带有铜冷却装置的阴极平台，包括底座、固定在底座上的供气装置和对称设置在供气装置两侧的两个阴极体；阴极体包括带有环形凹槽的底板和若干个绝缘支架，所述的环形凹槽内装有磁靴；所述的底板上由下至上依次设置有液冷板、铜背板、第二压板、靶材和第一压板；所述的液冷板上表面与所述的环形凹槽相对应位置处设置有环形凸槽，所述的环形凸槽伸入环形凹槽内，且该环形凸槽的外形与环形凹槽内部的形状相匹配，所述的环形凸槽背面经铜背板封闭形成冷却腔体；所述冷却腔体的底部设有冷却液的出、入口。该装置自带阴极体的冷却系统，可以对阴极体进行全方位的冷却处理。

技术领域

本发明涉及真空镀膜生产线技术领域，具体来说，是涉及一种真空镀膜生产线用阴极平台。

背景技术

真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术，有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溅射镀膜工艺中，对磁控溅射镀膜设备的质量要求很高，而在磁控溅射镀膜设备中，温度的控制尤为重要。目前的平面磁控溅射阴极(简称“平面阴极”)均是对磁靴和靶材进行分开冷却的方式，其冷却结构复杂，冷却系统的泄露风险大，且造价昂贵。

发明内容

本发明的目的是为了解决以上现有技术的不足，提供一种可同时冷却磁靴、靶材，且冷却液与磁铁互不接触的阴极平台。

一种带有铜冷却装置的阴极平台，包括底座、固定在底座上的供气装置和对称设置在供气装置两侧的两个阴极体；

所述的阴极体包括带有环形凹槽的底板和设置在底板下部的若干个绝缘支架，所述的绝缘支架固定于底座上；所述的环形凹槽内装有磁靴；所述的底板上由下至上依次设置有液冷板、铜背板、用于压紧铜背板的第二压板、靶材和用于压紧靶材的第一压板；

所述的液冷板上表面与所述的环形凹槽相对应位置处设置有环形凸槽，所述的环形凸槽伸入环形凹槽内，且该环形凸槽的外形与环形凹槽内部的形状相匹配，所述的环形凸槽背面经铜背板封闭形成冷却腔体；所述冷却腔体的底部设有冷却液的出、入口。

为了更好的安装磁靴，放置磁靴晃动，所述的磁靴的外表面与环形凹槽的内壁间还依次设有环形不锈钢垫圈和环形铝合金垫圈。

为了更好的向装置内输送气体，并将集中主供气与分别辅供气的进行一体化设计，优选地，所述的供气装置包括固定在底座上的底架、与底架相连的中架、设置在中架两侧的左、右侧板和横截面呈工字形的顶架；所述中架的左侧面设有主过气凹槽，主过气凹槽经左侧板封闭形成主供气管路，中架的右侧面设有若干个独立的辅过气凹槽，辅过气凹槽经右侧板封闭形成若干个独立的辅供气管路；所述顶架与中架通过通气板相连，所述的通气板内部设有若干个横截面呈Y字形的气道；所述Y字形气道的底部入口同时与主供气管路的出口以及辅供气管路的出口相连，所述主供气管路的入口与主进气管道相连，若干个辅供气管路的入口与若干个辅进气管道一一对应相连。

相对于传统的分开供气设计，上述供气可调的阴极平台通过中架与通气板的组合完美的实现了将集中主供气与分别辅供气结合的一体化设计，将主供气管路与辅供气管路集中放置在中架上，主、辅供气管路又同时与Y字形气道的底部入口相连，使用时，无论是哪个供气管路进行供气，都会通过Y字形气道两侧的气体出口向两侧的阴极体进行供气操作。在操作时，我们希望主供气管路就可以完成稳定均匀供气的效果，但当某一段靶材的使用情况异常或某一段成膜效果不均匀时，此时可以通过辅供气管路对局部的供气情况进行微调，从而提高靶材的利用率及成膜的均匀性。

为了更均匀的供气，所述的每个辅供气管路均包括三个辅气支路出口，每个辅气支路出口都单独与一个Y字形气道的底部入口相连。

优选的，所述的主供气管路设有九个主气支路出口，每个主气支路出口都单独与一个Y字形气道的底部入口相连。

有益效果：