[发明专利]冷却水路预警方法及系统、半导体加工设备

说明书

本发明提供一种冷却水路预警方法及系统、半导体加工设备，在冷却水路上设置有通断阀；冷却水路包括用于控制通断阀的控制单元，冷却水路预警方法包括：在作业设备开启时，分别对作业设备的内部温度、控制单元对通断阀的控制信号以及冷却水路的流量进行监测；根据监测结果判断是否出现冷却水路流量异常、通断阀故障和控制单元故障中的至少一种情况；若是，则发出报警。本发明提供的冷却水路预警方法及系统、半导体加工设备的技术方案，可以提高作业设备的寿命，同时避免因冷却水路的流量不足而造成的作业设备故障，从而避免工艺中断。

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，具体地，涉及一种冷却水路预警方法及系统、半导体加工设备。

背景技术

LED刻蚀机是LED光源生产过程中所需要的非常重要的设备，在生产过程中，利用分子泵对腔室进行抽真空，同时利用摆阀控制排气流量，可以实现对腔室压力进行稳定控制，保证刻蚀机正常进行工艺，因此分子泵的性能对刻蚀机的性能起到至关重要的作用。

为了避免分子泵内部的转子因为温度过高而损坏，分子泵内部内建冷却机构，并通过监测分子泵内部的温度，对冷却机构的通断阀的开闭进行控制，以将分子泵的内部温度稳定在65℃(分子泵正常运行时温度区间是65-68℃)左右。上述温度控制方法是基于厂务冷却水满足要求和分子泵水阀开启正常的情况。当分子泵水阀开启故障时，分子泵水路流量为0；当厂务冷却水含有杂质，造成分子泵水路堵塞，冷却水流量不满足要求时，有可能造成分子泵在工艺过程中由于过温报警停止工艺。

一般情况下，刻蚀机提供冷却水给分子泵，具体的冷却水控制由分子泵自行控制。如图1所示，图1是刻蚀机现在应用的控制流程。一体式分子泵通过对内部温度进行检测，控制水阀开闭，进而使分子泵内部的温度稳定在65℃左右。当分子泵由于水流量不足或通断阀故障，而致使分子泵温度超过73℃时，分子泵会因为温度过高而故障停止，同时发出分子泵过温报警。

但是，上述报警方式在实际应用中不可避免地存在以下问题：

其一，机台端或分子泵对分子泵冷却水路的流量并无监测，当分子泵的通断阀出现异常时，只有在分子泵运行一段时间后，超过分子泵的温度上限73℃时，才会发出报警，从而影响分子泵的寿命。

其二，由于通入冷却水路的冷却水可能会含有杂质，在机台长期使用的情况下，冷却水路可能会被堵塞，造成冷却水路的流量不足。这种情况在未进行工艺时因分子泵散热需求低，而不会被发现，但是，在进行工艺的过程中，由于分子泵散热需求增加，会因冷却水流量不足而温度过高，导致分子泵故障报警并停止工作，工艺也因此而中断，造成严重损失。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种冷却水路预警方法及系统、半导体加工设备，其可以提高作业设备的寿命，同时避免因冷却水路的流量不足而造成的作业设备故障，从而避免工艺中断。

为实现本发明的目的而提供一种冷却水路预警方法，在所述冷却水路上设置有通断阀；所述冷却水路包括用于控制所述通断阀的控制单元，所述冷却水路预警方法包括：

在作业设备开启时，分别对所述作业设备的内部温度、所述控制单元对所述通断阀的控制信号以及所述冷却水路的流量进行监测；

根据监测结果判断是否出现所述冷却水路流量异常、所述通断阀故障和所述控制单元故障中的至少一种情况；

若是，则发出报警。

可选的，所述冷却水路预警方法，具体包括：

S1，在所述作业设备开启时，检测所述作业设备的内部温度；

S2，判断所述作业设备的内部温度是否超出第一阈值，若超出，则进行步骤S3；若未超出，则返回所述步骤S1；

S3，判断所述控制单元是否发出所述通断阀的开启信号；若是，则进行步骤S4；若否，则发出所述控制单元故障的报警；