[发明专利]一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液及制备方法

权利要求书

1.一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液，其特征在于，包括以下重量份数的原料：润湿分散剂0.1-0.3份，电气石粉5-10份，负离子粉1-5份，乳液5-15份，除醛杀菌剂5-15份。

2.如权利要求1所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液，其特征在于，所述的润湿分散剂采用材料型号为TEGO Dispers755W、TEGO Dispers715W、TEGO Dispers740W、BASF Dispex Ultra PX 4585、BASF Dispex Ultra PA 4560、BYK190中的一种或者几种组合。

3.如权利要求1所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液，其特征在于，所述的乳液为纳米级纯丙乳液、苯丙乳液、醋丙乳液的一种或者几种组合。

4.如权利要求1所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液，其特征在于，所述的负离子粉为硅酸铝、硅酸铁、硅酸钙、硅酸镁、硅酸钾、硅酸钠、偏铝酸钠中的一种或者几种组合。

5.如权利要求1所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液，其特征在于，所述的电气石粉为钙镁电气石、镁铁锂电气石、钠镁电气石中的一种或几种。

6.如权利要求1所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液，其特征在于，所述的除醛杀菌剂为二氧化钛，氧化锌，氧化锡其中的一种或者几种。

7.如权利要求1所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：

步骤一、将电气石粉分散在去离子水中，电气石粉和助磨剂按照1:2的比列混合，加入去离子水调浆至浓度为50-70％，投入研磨机采用二次循环连续研磨工艺研磨至D50≤900nm，送入还原炉中还原，该还原炉中还原气氛为H₂，气体通入量控制在1.2-1.4m³/h，其还原温度为600-800℃，保温3-4h，得改性电气石细粉，冷却备用；

步骤二、去离子水与乳液按照3:1的比列混合分散，在分散混合液内加入400目的沸石在温度为30-40℃下搅拌12-24h，取出沸石后将乳液送入真空干燥箱干燥，备用；

步骤三、将步骤一中的改性电气石细粉与负离子粉按照1:1-3:1的比例混合制备成固含量为5~10％的去离子水溶液放入PU材质的棒销式纳米研磨机中进行研磨至D50≤100nm，得混合悬浊液；

步骤四、取所需量去离子水、润湿分散剂加入分散罐中，在转速为800-1500r/min条件下分散10-20min，分散完毕，得到混合物；

步骤五、将步骤三中制备的混合悬浊液在低速搅拌下，缓慢加入步骤四中的混合物中，在转速为600-900r/min下第一次分散10-20min，分散完毕，加入乳液和除醛杀菌剂在转速为300-600r/min下二次分散，经过滤装置过滤并收集滤液，即得成品负离子净化液。

8.如权利要求7所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液的制备方法，其特征在于，所述步骤一中还原炉采用PLC全自动控制H₂常压还原炉。

9.如权利要求7所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液的制备方法，其特征在于，所述步骤三中棒销式纳米研磨机的研磨介质为粒径0.05~0.08mm的锆珠，研磨线速为12m/s。

10.如权利要求7所述一种长期释放负离子和远红外线的除醛净化液的制备方法，其特征在于，所述步骤一中二次循环连续研磨工艺的具体步骤为：

第一次研磨：研磨时间为2-3h，研磨粒度为400-500nm，研磨介质为粒径为0.8-1.4mm的氧化锆；

第二次研磨：添加分散剂，研磨时间为2-3h，研磨粒度为800-900nm，研磨介质为0.1-0.5mm的氧化锆。