[发明专利]一种新型激光直描成像干膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种新型激光直描成像干膜，由重量百分比组分制成：丁酮33.57％；ZHEMA单体19.4％；酸酐性改性树脂SMA1000 38.1％；三乙醇胺0.57％；TMPTA3.37％；LCV 0.17％；甲醇4.04％；TPO光引发剂0.68％；阻聚剂HQ 0.17％，784光引发剂1.5％，品绿染料0.04％。此外，本发明还公开了一种新型激光直描成像干膜的制备方法。

技术领域

本发明涉及感光膜领域，具体涉及一种新型激光直描成像干膜及其制备方法。

背景技术

传统感光干膜在曝光显影制程时需要制作光绘菲林，感光干膜再曝光时需要用菲林遮挡不需要部分。变色成像,直描成像干膜可以不用菲林，在设备电脑内直接设计做好所需的图像，使用低能量405波长的激光光源，直接照射成像，从而更加简化曝光流程，提升PCB制板的效率，精细度，改变传统曝光方法。

激光直描成像干膜的优点为使用光源波长比较宽，使用时所需光源能量低，曝光速度快。缺点为使用光源的设备不同于传统设备，设备价格较高。

现有的成像干膜具有成像清晰度低、耐高温性能差的缺陷。

发明内容

本发明的目的是提供一种新型激光直描成像干膜，该干膜成像清晰度高、耐高温性能良好，同时本发明还提供该干膜的制备方法。

本发明的具体方案如下：一种新型激光直描成像干膜，由重量百分比组分制成：

酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100％，粘度Z1-Z2，酸值100mgKOH/g。

在上述的新型激光直描成像干膜中，由重量百分比组分制成：丁酮33.57％

相比于传统技术，本发明制备得到的干膜成像清晰度高、耐高温性能良好。

具体实施方式

下面结合实施例，对本发明作进一步的描述，但不构成对本发明的任何限制，任何在本发明权利要求范围所做的有限次的修改，仍在本发明的权利要求范围内。

实施例1

一种新型激光直描成像干膜，由重量百分比组分制成：

酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100％，粘度Z1-Z2，酸值100mgKOH/g

其制备方法为：将除甲醇外的所有原料加入到反应釜中，再加入甲醇，进入反应釜，均速搅拌5-7小时，静置1.5-2.5小时，反应温度为80-120℃之间。

实施例2

一种新型激光直描成像干膜，由重量百分比组分制成：

其制备方法为：将除甲醇外的所有原料加入到反应釜中，再加入甲醇，进入反应釜，均速搅拌5-7小时，静置1.5-2.5小时反应温度为80-120℃之间。

本实施例1和2制备得到的干膜成像清晰度高、耐高温性能良好。

上述实施例为本发明较佳的实施方式，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，其它的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。