[发明专利]D-A-π-A型立体化吩噻嗪类染料敏化剂及其制备方法和应用在审
申请号: | 201810855905.5 | 申请日: | 2018-07-31 |
公开(公告)号: | CN108822100A | 公开(公告)日: | 2018-11-16 |
发明(设计)人: | 贾海浪;彭智杰;林丽霞;关明云 | 申请(专利权)人: | 江苏理工学院 |
主分类号: | C07D417/14 | 分类号: | C07D417/14;C09B21/00;H01G9/20 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 高姗 |
地址: | 213001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备方法和应用 吩噻嗪类染料 染料敏化剂 吩噻嗪 敏化剂 染料 太阳能电池技术 光电转换性能 苯并噻二唑 太阳能电池 电荷复合 电子供体 分子结构 光电性能 简单反应 硼酸酯化 起始原料 电荷阱 螺双芴 吸电性 光子 缩合 溴化 修饰 捕获 合成 引入 表现 | ||
1.一种D-A-π-A型立体化吩噻嗪类染料敏化剂,其特征在于:所述染料敏化剂的结构如下式A所示:
2.根据权利要求1所述的D-A-π-A型立体化吩噻嗪类染料敏化剂,其特征在于:所述染料敏化剂以吩噻嗪作为电子供体端,采用螺双芴进行立体化修饰用于抑制电荷复合与染料聚集行为,苯并噻二唑作为电荷阱用于改善染料的光子捕获能力。
3.一种如权利要求1所述的D-A-π-A型立体化吩噻嗪类染料敏化剂的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)化合物1的合成:
将吩噻嗪加入到反应容器中,加入溶剂,进行冰浴,加入强碱,在室温下搅拌混合,然后滴加正溴辛烷,在室温下反应,反应完成后用冰水淬灭并用萃取剂萃取,对有机相干燥,进行过滤减压旋蒸,剩余物用柱层析进行纯化得到化合物1;
(2)化合物2的合成:
将化合物1加入到反应容器中,加入溶剂及N-溴代丁二酰亚胺,室温搅拌反应,反应完成后向反应液中加水并用萃取剂萃取,对有机相干燥,进行过滤减压旋蒸,剩余物用柱层析进行纯化得到化合物2;
(3)化合物3的合成:
将化合物2、2-硼酸酯-9,9'-螺二芴、无机碱加入反应容器中,加入溶剂,在惰性气体保护下加入催化剂,将反应液加热至80-100℃进行催化反应,反应完成后冷却至室温,减压旋蒸除去溶剂,然后向剩余物中加水并用萃取剂萃取,对有机相干燥,进行过滤减压旋蒸,剩余物用柱层析进行纯化得到化合物3;
(4)化合物4的合成:
将化合物3、联硼酸频那醇酯、乙酸钾加入反应容器中,加入溶剂,在惰性气体保护下加入催化剂,将反应液加热至80-100℃进行催化反应,反应完成后冷却至室温,减压旋蒸除去溶剂,然后向剩余物中加水并用萃取剂萃取,对有机相干燥,进行过滤减压旋蒸,剩余物用柱层析进行纯化得到化合物4;
(5)化合物5的合成:
将化合物4、4,7-二溴-2,1,3-苯并噻二唑、无机碱加入反应容器中,加入溶剂,在惰性气体保护下加入催化剂,将反应液加热至90-100℃进行催化反应,反应完成后冷却至室温,减压旋蒸除去溶剂,然后向剩余物中加水并用萃取剂萃取,对有机相干燥,进行过滤减压旋蒸,剩余物用柱层析进行纯化得到化合物5;
(6)化合物6的合成:
将化合物5、5-醛基-2-噻吩硼酸、无机碱加入反应容器中,加入溶剂,在惰性气体保护下加入催化剂,将反应液加热至90-100℃进行催化反应,反应完成后冷却至室温,减压旋蒸除去溶剂,然后向剩余物中加水并用萃取剂萃取,对有机相干燥,进行过滤减压旋蒸,剩余物用柱层析进行纯化得到化合物6;
(7)终产物染料敏化剂的合成:
将化合物6、氰基乙酸加入反应容器中,加入溶剂,在惰性气体保护下加入弱碱,将反应液加热回流反应,反应完成后冷却至室温,减压旋蒸除去溶剂,然后向剩余物中加水并用萃取剂萃取,对有机相干燥,进行过滤减压旋蒸,剩余物用柱层析进行纯化得到终产物染料敏化剂。
4.根据权利要求3所述的D-A-π-A型立体化吩噻嗪类染料敏化剂的制备方法,其特征在于:所述惰性气体为氮气和/氩气,所述萃取剂选自乙酸乙酯、二氯甲烷、三氯甲烷中的一种或几种。
5.根据权利要求3所述的D-A-π-A型立体化吩噻嗪类染料敏化剂的制备方法,其特征在于:步骤(1)中和步骤(2)中所述溶剂为N,N-二甲基甲酰胺和/或四氢呋喃,步骤(1)中所述强碱选自钠氢、氢氧化钾、氢氧化钠中的一种或几种,步骤(1)和步骤(2)中的柱层析方法为:选用具砂板层析柱,填料为200-300目的硅胶,选用洗脱剂为石油醚/乙酸乙酯体积比:100/1-1/10。
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