[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板及液晶显示器

说明书

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板和液晶显示器。所述阵列基板包括：一衬底；一薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述衬底上；一平坦层，所述平坦层铺设在所述薄膜晶体管器件层上；一配向膜层，所述配向膜层位于所述平坦层之上；其中，在所述配向膜层上形成有多个隔离物区域，分别对应于用来支撑所述阵列基板和一彩膜基板的隔离物，其中所述隔离物区域呈凹槽状，所述隔离物区域能够限制相对应的隔离物的滑动范围；所述平坦层形成有多个与隔离物区域相对应的第一区域，所述第一区域也相应地呈凹槽状。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板、液晶显示器及该阵列基板的制备方法。

背景技术

请参照图1所示，现有的TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay，即薄膜场效应晶体管-液晶显示器)面板是由TFT基板(包括薄膜晶体管器件层110、平坦层120和配向膜层130)、彩膜(Color Filter,简称CF)基板140以及两者之间的液晶构成。其中，在平坦层120和配向膜层130之间还包括公共电极层121、钝化层122和像素电极层123。TFT-LCD面板的工作原理为在外加电压控制下，由于液晶具有介电各向异性特点，液晶分子发生转动，使得液晶的折射率或透光率相应发生变化，从而控制TFT-LCD的出光量。

为了更好地控制TFT-LCD面板中的液晶的发光量，一般在成盒制程中会对TFT基板(或称阵列基板)和CF基板同时涂布一层聚酰亚胺(Polyimide,简称PI)配向膜130。通过利用液晶与PI配向膜界面之间的较强作用力，使得当外加电压撤消后，改变排列方向后的液晶分子靠着黏弹性恢复至原来的状态。因此，要求PI配向膜具有均一性、密着性和稳定性的特点。

TFT-LCD面板的盒厚一般是由注入其中的液晶量决定的。在外界压力或重力作用下，TFT-LCD面板容易发生盒厚不均的现象，于是会影响到TFT-LCD面板的穿透率、对比率、相应速度等显示特性。因此，业界通用的技术方案通常是在CF基板上通过曝光、刻蚀工艺制作隔离物150(Photo Spacer，简称PS)，隔离物位于TFT基板和CF基板之间，用于缓冲TFT-LCD面板所受到的外部压力，从而能够保持盒厚的均一性。根据隔离物的高度不同、缓冲应力的主次功能不同，又可以分为主隔离物(Main PS，即MPS)和次隔离物(Sub PS，即SPS)。

然而，在TFT-LCD面板的实际应用中，常常因摔落等其他外力(如图1所示的F)会导致TFT-LCD面板受力而变形，其中主隔离物的滑动(如图1所示的滑动方向A)容易造成PI配向膜的损伤，于是会引起液晶配向紊乱，并且出现碎亮点等不良现象。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种阵列基板、显示面板、液晶显示器及该阵列基板的制备方法，能够有效地减少隔离物(尤其是主隔离物)因受外力作用而损伤配向膜层并产生配向膜层碎屑的问题，以及防止碎亮点等显示不良的发生，进而提高了显示面板的落摔可靠性。

为了实现上述目的，本发明提供了一种阵列基板，包括一衬底，所述阵列基板还包括：一薄膜晶体管器件层，所述薄膜晶体管器件层设置在所述衬底上；一平坦层，所述平坦层铺设在所述薄膜晶体管器件层上；一配向膜层，所述配向膜层位于所述平坦层之上；其中，在所述配向膜层上形成有多个隔离物区域，，分别对应于用来支撑所述阵列基板和一彩膜基板的隔离物，其中所述隔离物区域呈凹槽状，所述隔离物区域能够限制相对应的隔离物的滑动范围；所述平坦层形成有多个与所述隔离物区域相对应第一区域，所述第一区域也相应地呈凹槽状。

在本发明的一实施例中，所述配向膜层的隔离物区域的厚度与所述配向膜层除所述隔离物区域外的非隔离物区域的厚度相同。

在本发明的一实施例中，所述平坦层的第一区域的凹槽深度为所述平坦层厚度的五分之一。