[发明专利]基板处理装置有效
申请号: | 201810805556.6 | 申请日: | 2018-07-20 |
公开(公告)号: | CN109300804B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 金基哲;崔峰满 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 延美花;臧建明 |
地址: | 韩国忠清*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
基板处理装置可包括连续地配置的多个工作台、能够使得所述多个工作台之间相隔绝的挡板及位于所述多个工作台的下部且在所述挡板位于所述多个工作台之间时向所述挡板的两侧部施加力以相对于所述多个工作台整列所述挡板的整列部件。本发明的基板处理装置能够使得实质上连续地配置的多个工作台之间相隔绝。
本申请要求于2017年7月25日向韩国特许厅申请的韩国专利申请第10-2017-0094081号的优先权。
技术领域
本发明例示的实施例涉及基板处理装置。更具体来讲,本发明例示的实施例涉及包括能够使得实质上连续地配置的多个工作台之间相隔绝的挡板的基板处理装置。
背景技术
制造平板显示(Flat Panel Display:FPD)装置之类的显示装置时通常可能使用具有连续地配置的多个工作台的基板处理装置。这种基板处理装置的例子有提供约60℃的温度的工作台及提供约110℃的温度的工作台连续地配置的烘干装置。
在所述基板处理装置中,所述连续地配置的多个工作台在对基板执行工程时能够影响工程条件,因此在对所述基板执行所述工程期间可能需要用挡板(shutter)使得所述连续地配置的工作台之间相隔绝。
但现有的基板处理装置的挡板大体上以摆动方式驱动,因此所述挡板的设置可能会需要相对大的空间,这种挡板和内部配置有所述多个工作台的腔室的壁可能发生碰撞产生颗粒物。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的是提供一种包括能够从外部隔绝用于对基板执行工程的空间的挡板及用于整列所述挡板的整列部件的基板处理装置。
本发明的另一目的是提供一种包括能够使得连续地配置的多个工作台之间相隔绝的挡板及相对于所述连续地配置的多个工作台整列所述挡板的整列部件的基板处理装置。
本发明的又一目的是提供一种包括能够使得连续地配置的多个超声波工作台之间相隔绝的挡板及相对于所述多个超声波工作台整列所述挡板的整列部件的基板处理装置。
技术方案
根据本发明的一个方面,提供一种包括挡板及整列部件的基板处理装置。所述挡板能够从外部隔绝用于对基板执行制造集成电路装置所需的工程的空间。所述整列部件在利用所述挡板从所述外部隔离所述空间时能够向所述挡板的两侧部施加力以整列所述挡板。
根据例示的实施例,所述基板处理装置还可以包括:工程腔室,其包括对所述基板执行所述工程的所述空间;以及出入部,其配置于所述工程腔室的至少一侧部用于承载及卸载所述基板。该情况下,所述挡板可隔绝所述出入部。
根据例示的实施例,所述基板处理装置可包括连续地配置的两个工程腔室。其中,所述连续地配置的两个工程腔室的出入部可彼此相对地配置,所述挡板能够使得所述连续地配置的两个工程腔室的出入部之间相隔绝。
根据例示的实施例,所述挡板可向实质上垂直的方向移动以从所述外部隔绝用于执行所述工程的所述空间。
根据例示的实施例,所述挡板可位于所述工程腔室的下部,可向所述工程腔室的实质上的上方移动。
根据例示的实施例,所述挡板可包括实质上具有薄膜形状的板。
根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可由超声波发生。
根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可由空气发生。
根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可具有实质上相同的大小。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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