[发明专利]过渡态氧化镍铬膜层的制备方法及包含该过渡态氧化镍铬膜层的可钢化低辐射镀膜玻璃

权利要求书

1.一种过渡态氧化镍铬膜层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：采用NiCr合金靶材，在直流电源的控制下，保持磁控溅射镀膜设备的背景本底真空度优于5×10^-4Pa，在工艺气氛点采用反应式溅射的方式在上一膜层的表面顺次进行沉积，所述的工艺气氛点对应为氩氧氛围，且通入的氩气和氧气的流量比为8/1-12/1，即得过渡态氧化镍铬膜层；

所述工艺气氛点所对应的氩气和氧气的流量比例采用以下方法获得：保持磁控溅射镀膜设备的背景本底真空度优于5×10^-4Pa，保持磁控溅射镀膜设备的溅射功率不变，保持氩气的流量不变，从零开始逐步增加O₂的流量，记录不同O₂流量下的电压值，绘制电压-O₂流量曲线，找出所述电压-O₂流量曲线上最大电压值所对应的氩气和氧气的流量比例，即为所述工艺气氛点所对应的氩气和氧气的流量比例。

2.根据权利要求1所述的一种过渡态氧化镍铬膜层的制备方法，其特征在于：所述过渡态氧化镍铬膜层的厚度为1.5-5nm。

3.一种包含由权利要求1至2任一项所述的方法制备的过渡态氧化镍铬膜层的可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的打底层、第一种子层、第一银层、第一过渡态氧化镍铬膜层、第一中间层、第二种子层、第二银层、第二过渡态氧化镍铬膜层和顶部保护层；

所述第一种子层/第二种子层的膜层材料为氧化锌，其厚度为8-15nm；

所述第一银层/第二银层的厚度为8-20nm；所述第一过渡态氧化镍铬膜层/第二过渡态氧化镍铬膜层的厚度为1.5-5nm；

所述第一中间层至少包含一层氧化物介质层，所述第一中间层的厚度为50-80nm；

所述顶部保护层至少包含一层氮化硅层，其厚度为20-50nm；

所述打底层的膜层材料为氮化硅，其厚度为15-30nm。

4.根据权利要求3所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二过渡态氧化镍铬层和所述顶部保护层之间自内向外还依次镀设有第二中间层、第三种子层、第三银层和第三过渡态氧化镍铬膜层。

5.根据权利要求4所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一种子层/第二种子层/第三种子层的膜层材料为氧化锌，其厚度为8-15nm。

6.根据权利要求4所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一银层/第二银层/第三银层的厚度为8-20nm；所述第一过渡态氧化镍铬膜层/第二过渡态氧化镍铬膜层/第三过渡态氧化镍铬膜层的厚度为1.5-5nm。

7.根据权利要求4所述的一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一中间层/第二中间层至少包含一层氧化物介质层，所述第一中间层的厚度为50-80nm；所述第二中间层的厚度为40-60nm。