[发明专利]过渡态氧化镍铬膜层的制备方法及包含该过渡态氧化镍铬膜层的可钢化低辐射镀膜玻璃

说明书

本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及过渡态氧化镍铬膜层的制备方法及包含该过渡态氧化镍铬膜层的可钢化低辐射镀膜玻璃，本发明的制备方法包括如下步骤：采用NiCr合金靶材，在直流电源或直流脉冲电源的控制下，保持磁控溅射镀膜设备的背景本底真空度优于5×10^‑4Pa，在工艺气氛点采用反应式溅射的方式在上一膜层的表面顺次进行沉积，所述的工艺气氛点对应为氩氧氛围，且通入的氩气和氧气的流量比为8/1‑12/1，即得过渡态氧化镍铬膜层，由本发明的制备方法制得的过渡态氧化镍铬膜层，将其作为阻挡层应用于可钢化低辐射镀膜玻璃可大幅减少玻璃钢化前后的色差，有利于生产过程中的颜色控制，并且还能大幅提高透过率，透过色更加中性。

技术领域

本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及过渡态氧化镍铬膜层的制备方法及包含该过渡态氧化镍铬膜层的可钢化低辐射镀膜玻璃。

背景技术

以银为功能层的离线低辐射玻璃在建筑玻璃获得广泛的应用，可钢化低辐射玻璃具有可异地加工的特点，将镀膜大板与后续的钢化、中空等环节隔开，具有更大的加工便利性。因而在住宅门窗及部分公建项目上应用较多。

低辐射玻璃的膜层结构随着多年的发展逐渐趋于稳定和成熟，功能层Ag膜的厚度一般为8～20nm，在镀膜过程及后续的钢化过程中极易氧化或硫化。阻挡层的作用是通过在Ag层表面镀制一层薄薄的材料来保护Ag层，避免Ag层氧化或硫化，目前常用的阻挡层材料包括金属的NiCr或者Ti。可钢化低辐射玻璃的加工需经过钢化炉加热过程，温度高达690℃，在钢化过程中由于上述金属材料部分甚至完全氧化，其膜层材料的化学计量比发生变化，光学常数也随之发生显著的变化。反应到外观上就是钢化前后的外观颜色有很大的变化。

上述钢化前后较大的色差会导致可钢化低辐射玻璃的钢化稳定性差，不利于低辐射玻璃的大规模使用。特别是对于可钢化低辐射大板产品，受限于下游加工厂商的钢化设备和工艺管控水平，钢化前后的色差越大，则不同钢化炉设备、不同批次间加工的产品的颜色差异的可能性就越大。玻璃幕墙或玻璃门窗作为一种建筑材料，相当于建筑的外衣，这种色差将严重影响外观形象，若投诉更换玻璃，将导致巨大的财力和物力的浪费。同时，因为色差原因导致的补片也必须采用“镀膜-钢化”的先后工序，补片过程仍有色差的风险，导致交货困扰。因此，如何控制钢化前后的色差是玻璃深加工镀膜行业研究的热点之一。

发明内容

本发明提供一种过渡态氧化镍铬膜层的制备方法，由该方法制备的过渡态氧化镍铬膜层作为可钢化低辐射镀膜玻璃的阻挡层，可以有效降低玻璃产品钢化前后的色差，大幅提高玻璃产品的透过率，还能使透过色更加中性。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种过渡态氧化镍铬膜层的制备方法，包括如下步骤：采用NiCr合金靶材，在直流电源或直流脉冲电源的控制下，保持磁控溅射镀膜设备的背景本底真空度优于5×10^-4Pa，在工艺气氛点采用反应式溅射的方式在上一膜层的表面顺次进行沉积，所述的工艺气氛点对应为氩氧氛围，且通入的氩气和氧气的流量比为8/1-12/1，即得过渡态氧化镍铬膜层。

进一步的，所述过渡态氧化镍铬膜层的厚度为1.5-5nm。

进一步的，所述工艺气氛点所对应的氩气和氧气的流量比例采用以下方法获得：保持磁控溅射镀膜设备的背景本底真空度优于5×10^-4Pa，保持磁控溅射镀膜设备的溅射功率不变，保持氩气的流量不变，从零开始逐步增加O₂的流量，记录不同O₂流量下的电压值，绘制电压-O₂流量曲线，找出所述电压-O₂流量曲线上最大电压值所对应的氩气和氧气的流量比例，即为所述工艺气氛点所对应的氩气和氧气的流量比例。