[发明专利]一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置

说明书

本发明公开了一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置，涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，包括前端和后端水洗装置、第一和第二反应腔、冷却塔和废水箱，前端水洗装置和第一反应腔通过连接管道一连接，第一反应腔和第二反应腔通过连接管道二连接，第二反应腔和后端水洗装置的进气端连接，冷却塔和后端水洗装置的出气端连接，前端和后端水洗装置通过连接软管分别和废水箱连接。废气中含有的粉尘和酸性气体经过前端水洗装置后，与水结合掉落到装置底部并顺着水流冲洗到废水箱中，接着废气中的有机物进入第一和第二反应腔充分反应，再经过后端水洗装置和冷却塔的水洗喷淋和冷却降温后，达到排放标准后从出气口排出。

技术领域

本发明涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，具体涉及一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置。

背景技术

在半导体制造过程中既有二氧化硫、氮氧化物、含氟气体等有害废气外排，也有大量的粉尘伴随废气排放到环境中，造成环境空气污染。应用在半导体行业的传统废气处理设备在长时间运行中会因为废气中含有的粉尘导致废气处理设备反应腔堵塞，缩短设备的维护周期，影响工厂的产能，同时，在长时间运行中会因为废气中的酸性气体加速腐蚀设备的金属管路及连接厂务排风的金属管路，造成气体泄漏，导致安全事件发生。

中国专利申请号为CN107051092A公开了一种废气处理设备，包括：喷淋净化装置，包括塔体和喷淋机构，塔体具有容纳腔，塔体内沿底部到顶部依次设有旋流结构层和填料层以将容纳腔分隔为第一腔室、第二腔室和第三腔室，塔体的底部设有与第一腔室连通的进气口和出水口，塔体的顶部设有与第三腔室连通的出气口；喷淋机构包括第一喷淋组件和第二喷淋组件；气体净化装置，包括具有净化腔的本体，本体上设有与净化腔连通的进风口和出风口，进风口与出气口连通，净化腔包括等离子反应腔，等离子反应腔内设有等离子电场发生器。

中国专利申请号为CN107051067A公开了一种一体化废气处理设备，包括：降温装置，包括壳体和降温喷淋机构，壳体具有降温腔，降温喷淋机构设于降温腔内，降温腔内从降温进气口至降温出气口设有多个隔板以将降温腔分隔为多个降温区，隔板上开设有通孔；喷淋净化装置，包括塔体和净化喷淋机构，塔体具有容纳腔，塔体上设有与容纳腔连通的净化进气口、净化出水口和净化出气口，净化喷淋机构设于容纳腔内，净化进气口与降温出气口连通；气体净化装置，包括具有净化腔的本体，本体上设有与净化腔连通的进风口和出风口，进风口与净化出气口连通，净化腔包括等离子反应腔。

通过对上述对比文件仔细分析后发现：对比文件1中所涉及的技术方案结构上过于复杂，维护成本较高；对比文件2中所涉及的技术方案装置占用的空间较大，不便应用于半导体制造过程中对制成工艺气体处理，因此，对应用于半导体制造过程中制成工艺气体处理设备需要重新进行更加合理的设计。

发明内容

本发明的目的在于提供一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置，以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。

一种适用于酸性气体、粉尘环境的水洗喷淋装置，包括前端水洗装置、第一反应腔、第二反应腔、后端水洗装置、冷却塔和废水箱，所述前端水洗装置包括前端水洗腔体和安装在前端水洗腔体上的进气法兰、出气法兰和出水法兰一，所述进气法兰和出气法兰分别竖直焊接在前端水洗腔体的顶部左侧和右侧，所述出水法兰一竖直焊接在前端水洗腔体的底部并通过连接软管一和废水箱连接，所述前端水洗腔体的左侧上部和下部分别水平焊接有喷头法兰一和喷头法兰二，所述前端水洗腔体的右侧下部水平焊接有喷头法兰三，所述喷头法兰一、喷头法兰二和喷头法兰三内均设有喷头一；