[发明专利]一种电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法

说明书

本发明公开了一种电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法，包括（1）准备试样；（2）固定试样；（3）粗抛；（4）中抛；（5）精抛；（6）清洗吹干步骤。本发明解决了由于产品厚度变薄以及面积变小等不易抛光的问题，其目的在于高效、批量地抛光不锈钢产品，并且能消除不锈钢表面的抛光缺陷，达到高性能电子产品外观的表面质量要求，即粗糙度值Ra≤0.005μm。

技术领域

本发明涉及一种电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法，特别是一种将表面状态为No.1或No.2B的奥氏体不锈钢抛光到镜面效果的方法。属于不锈钢表面抛光领域。

背景技术

不锈钢材料具有耐蚀、耐磨及表面光亮等优点，当前越来越多的不锈钢材料应用于电子产品外观部件领域，随着高性能电子产品日新月异的发展，不锈钢材料应用要求厚度超薄、面积更小以及表面高镜面发展成为趋势，而当前电子产品用不锈钢的表面抛光方法仍然以传统镶嵌抛光方法为主，生产效率低、成本高，且厚度≤0.8mm的不锈钢产品无法采用传统镶嵌方法进行抛光，不能实现批量化生产。此外，传统镶嵌抛光方法中，样品表面往往存在目视可见的抛光缺陷，无法满足电子产品外观的表面质量要求，传统镶嵌抛光方法粗糙度Ra通常为0.01μm，也无法达到高性能电子产品对表面粗糙度值Ra≤0.005μm的要求。

发明内容

本发明旨在提供一种电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法，特别是一种将表面状态为No.1或No.2B的奥氏体不锈钢抛光到镜面效果的方法；No.1表面状态指热轧到规定厚度，再经退火和除鳞酸洗的一种粗糙、无光表面状态；No.2B表面状态指冷轧到规定厚度，经退火、除鳞、酸洗，再经过抛光辊进行一道冷轧，有适当光泽的一种表面状态。

本发明解决了产品厚度变薄、面积变小等不易抛光的问题，且消除了不锈钢表面的抛光缺陷，满足高性能电子产品外观的表面质量要求，即粗糙度值Ra≤0.005μm。

本发明提供了一种电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法，包括以下步骤：

（1）准备试样：

试样为长方体结构，厚度为0.5mm-6mm，长度为10mm-250mm，宽度为10mm-250mm，试样的上、下表面面积为100mm²-20000mm²；试样的最大面积为20000mm²，此处试样的宽度为100mm，长度为200mm；

（2）固定试样：

将试样通过热熔胶粘于Φ300mm，厚度为25mm的铝制圆盘夹具上，夹具下表面为一水平面，上表面为圆周边部有一定凸起的表面，用于固定压重模块，然后将试样连同夹具置于Φ640mm的抛光平台上，每个抛光工序平台上有三个固定挡位，每个挡位用两个滑轮对夹具进行固定，可能同时固定3个夹具，夹具上方通过压重模块施加压力，用于增大样品表面与各工序磨料之间的摩擦力；

夹具上最少固定两个试样，因此试样的上、下表面的最大面积只能取20000mm²；

（3）粗抛：

固定好试样后对试样进行粗抛，该工序的操作过程为：在粗抛平台上固定同直径的粗抛磨料，开启电源，粗抛平台进行逆时针旋转，通过压重模块对夹具的压力，使样品表面与粗抛磨料间产生摩擦力，从而带动夹具进行逆时针旋转；夹具的转速与粗抛平台转速不一致，使粗抛磨料对样品表面进行粗抛工序。

该工序所用磨料为合成铁盘，抛光平台的转速为30-40r/min，夹具上方的压重模块压力为250-300N，抛光时间为12-15min，的通过蠕动泵自动供给已制备好的金刚石粉悬浮液，流速为20-25ml/min，粒径范围为1.0μm-5.0μm。

（4）中抛：