[发明专利]一种电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法

权利要求书

1.一种电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法，其特征在于包括以下步骤：

（1）准备试样：

试样为长方体结构，厚度为0.5mm-6mm，长度为10mm-250mm，宽度为10mm-250mm，试样的上、下表面面积为100mm²-20000mm²；

（2）固定试样：

将试样通过热熔胶粘于Φ300mm，厚度为25mm的夹具上，然后将试样连同夹具置于Φ640mm的抛光平台上，每个抛光工序平台上能同时固定3个夹具，夹具上方通过压重模块施加压力；

（3）粗抛：

固定好试样后对试样进行粗抛，该工序的操作过程为：在粗抛平台上固定同直径的粗抛磨料，开启电源，粗抛平台进行逆时针旋转，通过压重模块对夹具的压力，使样品表面与粗抛磨料间产生摩擦力，从而带动夹具进行逆时针旋转，夹具的转速与粗抛平台转速不一致，使粗抛磨料对样品表面进行粗抛工序；

步骤（3）粗抛过程中，所用磨料为合成铁盘，抛光平台的转速为30-40r/min，夹具上方的压重模块压力为250-300N，抛光时间为12-15min，通过蠕动泵自动供给已制备好的金刚石粉悬浮液，金刚石粉悬浮液的流速为20-25ml/min，粒径范围为1.0μm-5.0μm；

（4）中抛：

粗抛完毕后对试样进行中抛，该工序的操作过程为：在中抛平台上固定同直径的中抛磨料，开启电源，中抛平台进行逆时针旋转，通过压重模块对夹具的压力，使样品表面与中抛磨料间产生摩擦力，从而带动夹具进行逆时针旋转，夹具的转速与中抛平台转速不一致，使中抛磨料对样品表面进行中抛工序；

步骤（4）中抛过程中，所用磨料为聚氨酯抛光布，抛光平台转速为25-30r/min，夹具上方的压重模块压力为200-250N，抛光时间为8-10min，通过蠕动泵自动供给已制备好的三氧化二铝水溶液，流速为18-22ml/min，质量浓度为20%-40%；

（5）精抛：

中抛完毕后对试样进行精抛，该工序的操作过程为：在精抛平台上固定同直径的精抛磨料，开启电源，精抛平台进行逆时针旋转，通过压重模块对夹具的压力，使样品表面与精抛磨料间产生摩擦力，从而带动夹具进行逆时针旋转，夹具的转速与精抛平台转速不一致，使精抛磨料对样品表面进行精抛工序；

步骤（5）精抛过程中，所用磨料为阻尼布，抛光平台转速为18-20r/min，夹具上方的压重模块压力为150-180N，抛光时间为5-7min，通过蠕动泵自动供给已制备好的二氧化硅水溶液，二氧化硅水溶液的流速为15-18ml/min，质量浓度范围为15%-30%；

（6）清洗吹干：

将精抛后的试样用无水酒精清洗，并吹干表面。

2.根据权利要求1所述的电子产品用奥氏体不锈钢的表面抛光方法，其特征在于：夹具为铝制圆盘，下表面为一水平面，上表面为圆周边部有凸起的表面，抛光工序平台上有三个固定挡位，每个挡位用两个滑轮对夹具进行固定，能同时固定3个夹具；夹具上方的压重模块通过自重的压力，增加样品表面与磨料之间的摩擦力，压重模块通过空气压缩机控制的气缸自动调节升降。