[发明专利]一种可以在真空环境下连续进出料的CVD/PECVD设备

权利要求书

1.一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，包括：反应腔；进料腔，设置在所述反应腔的一端；冷却腔，设置在所述反应腔的另一端，其特征在于，所述反应腔包括石英腔体和设置在两端的连接法兰，所述进料腔和所述冷却腔两端各设置有真空舱门(4、6、5、7)。

2.根据权利要求1所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述反应腔包括：石英腔体(2)，设置于管式加热炉内(28)，其材料为石英；第一连接法兰(24)，设置于靠近所述进料腔(1)腔体的一侧，通过螺栓与所述进料腔的真空舱门(4)固定连接；第二连接法兰(25)，设置于靠近所述冷却腔(3)腔体的一侧，通过螺栓与所述冷却腔的真空舱门(5)固定连接。

3.根据权利要求1～2所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述第一连接法兰的侧面设置有真空电极(13)，所述第二连接法兰的侧面设置有真空电极(31)。

4.根据权利要求1～2所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述第一连接法兰的侧面设置有支撑架(30)，所述第二连接法兰的侧面设置有支撑架(29)。

5.根据权利要求1～2所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述第一连接法兰的侧面还设置有进气口(23)，所述第一连接法兰的侧面还设置有排气口(21)、真空度测试仪器接口(22)。

6.根据权利要求1～5所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述反应腔内设置有电传输机构(32)，设置于所述反应腔腔体内的底部，用于输电；所述电传输机构是通过设置于所述连接法兰侧面(24)的所述真空电极(13)连接到外部输电电路。

7.根据权利要求1～5所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述反应腔内还设置有感温组件(14)，设置于所述反应腔腔体内的底部，用于感测反应腔腔体内的温度；所述感温组件(14)是通过设置于所述连接法兰(25)侧面的所述真空电极(31)连接到外部控制电路。

8.根据权利要求1～5所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述反应腔内还设置有支撑机构，设置于所述反应腔腔体内的底部，用于支撑基底材料及其载体；所述支撑机构包括两根支撑杆(12)。所述支撑杆(12)的两端固定连接在所述连接法兰(24、25)的侧面的所述支撑架上(29、30)。

9.根据权利要求1所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述进料腔还包括：进料腔腔体(1)；第一输送系统，设置于所述进料腔腔体内，用于承载和推送基底材料及其载体。

10.根据权利要求1所述的可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述冷却腔还包括：冷却腔腔体(3)；第二输送系统，设置于所述冷却腔腔体内，用于承载和拉出基底材料及其载体。

11.根据权利要求9、10所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述第一输送系统和所述第二输送系统包括：支撑杆(15、16)、固定支架(8、10)、滑轨(9、11)以及各自的动力机构。所述支撑杆(15/16)固定在所述固定支架(8/10)上，所述固定支架(8/10)滑设于所述滑轨(9/11)上，所述动力机构控制所述固定支架(8/10)在所述滑轨(9/11)上的移动。

12.根据权利要求8、11所述的一种可以在真空环境下连续进出料的CVD装置，其特征在于，所述支撑杆(12、15、16)的材质为耐高温、强度高的材料。