[发明专利]采用微波垂直注入激励等离子体发生装置

权利要求书

1.采用微波垂直注入激励等离子体发生装置，其特征在于，包括线圈(1)、等离子体放电腔体(2)、连接法兰(3)、微波窗(4)、气体入口(5)、真空泵组接口(6)；

所述线圈(1)为中空结构设计；所述等离子体放电腔体(2)两端为圆台型设计；

所述等离子体放电腔体(2)的侧壁上开设有一气体入口(5)；气体入口(5)通过连接法兰(3)与微波窗(4)进行连接；

所述等离子体放电腔体(2)的侧壁上还开设有两个真空泵组接口(6)；

所述等离子体放电腔体(2)的侧壁上设有六组线圈(1)。

2.根据权利要求1所述的采用微波垂直注入激励等离子体发生装置，其特征在于，所述气体入口(5)开设在等离子体放电腔体(2)的中间位置，两个真空泵组接口(6)在竖直方向上分别位于气体入口(5)两侧。

3.根据权利要求1所述的采用微波垂直注入激励等离子体发生装置，其特征在于，六组所述线圈(1)均布在气体入口(5)两侧的等离子体放电腔体上，具体为：等离子体放电腔体(2)两端的圆台型位置处布设两组线圈(1)，真空泵组接口(6)与气体入口(5)之间的等离子体放电腔体上布设一组线圈(1)。

4.根据权利要求1所述的采用微波垂直注入激励等离子体发生装置，其特征在于，所述线圈(1)采用铜材料构成，线圈(1)中空结构通入去离子水进行冷却。

5.根据权利要求1所述的采用微波垂直注入激励等离子体发生装置，其特征在于，所述等离子体放电腔体(2)为一近圆柱体不锈钢腔体，为等离子体产生的区域；等离子体放电腔体(2)由不锈钢材料制成。

6.根据权利要求1所述的采用微波垂直注入激励等离子体发生装置，其特征在于，所述微波窗(4)由氧化铝陶瓷材料制成。