[发明专利]一种基于混合烧结的氮化硼绝缘散热膜的制备方法

权利要求书

1.一种基于混合烧结的氮化硼绝缘散热膜的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：

（1）将二维氮化硼微片与立方氮化硼微粉均匀地混合分散于溶液中，获得氮化硼分散液，使得二维氮化硼微片与立方氮化硼颗粒均匀、相间地分布在溶液中；

（2）在柔性衬底上沉积氮化硼溶液层并烘干获得氮化硼膜层，所述氮化硼膜中二维氮化硼微片与立方氮化硼颗粒均匀混合分布；

（3）再通过平板液压或对辊热压压延获得的样品，以使二维氮化硼微片与立方氮化硼颗粒更加紧密有序的排布；

（4）将上述处理后的氮化硼散热膜从柔性衬底上剥离，进行烧结处理，烧结的温度为900到3000摄氏度，气氛环境为氮气、氦气、氩气、氢气、氧气、甲烷气体中的一种或几种，使得横向二维层状氮化硼之间、纵向二维层状氮化硼与立方氮化硼之间形成化学键，得到致密有序连接空间结构的氮化硼绝缘散热膜。

2.根据权利要求1所述的一种基于混合烧结的氮化硼绝缘散热膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述的二维氮化硼微片通过液相剥离六方氮化硼或者球磨六方氮化硼微片得到，片径为10纳米到100微米；所述的立方氮化硼微粉由立方氮化硼研磨成粉得到，粒径为10纳米到100微米。

3.根据权利要求1所述的一种基于混合烧结的氮化硼绝缘散热膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述的溶液为水、酒精、NMP、DMF、丙酮、IPA中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的一种基于混合烧结的氮化硼绝缘散热膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述的柔性衬底为高分子薄膜或者金属薄膜。

5.根据权利要求1所述的一种基于混合烧结的氮化硼绝缘散热膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述的对辊热压温度为0摄氏度至1500摄氏度。

6.根据权利要求1所述的一种基于混合烧结的氮化硼绝缘散热膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述的氮化硼绝缘散热膜压延后厚度为5纳米至5毫米。