[发明专利]掩膜板框架组件和掩膜板模组有效

专利信息
申请号: 201810612835.0 申请日: 2018-06-14
公开(公告)号: CN108823527B 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 张健;黄俊杰;王震;李冬伟;赵蓉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掩膜板 框架 组件 模组
【说明书】:

发明提供一种用于蒸镀的掩膜板框架组件,所述掩膜板框架组件包括框架和开口掩膜板,所述开口掩膜板包括掩膜板本体和设置在所述掩膜板本体边缘处的多个固定条,所述框架包括框架本体,其中,所述开口掩膜板与所述框架层叠设置,且所述掩膜板本体的一部分与所述框架本体重叠,所述固定条位于所述框架本体上。本发明还提供一种掩膜板模组。所述掩膜板模组中的图像化掩膜板结构稳定,不容易产生变形。

技术领域

本发明涉及微电子加工设备领域,具体地,涉及一种掩膜板框架组件和一种掩膜板模组。

背景技术

在制造有机发光二极管显示面板时,通常会用到掩膜板组件。作为一种常用的实施方式,掩膜板组件包括依次层叠框架(Frame)、开口掩膜板(Open mask)和图形化掩膜板。

所述开口掩膜板上设置有固定条,所述开口掩膜板通过所述固定条焊接在框架上,所述图形化掩膜板通过焊接的方式与所述开口掩膜板的固定条固定连接。但是,在这种掩膜板组件中,所述图形化掩膜板容易发生变形,并产生褶皱,进而导致利用该掩膜板组件制成的有机发光二极管显示面板产生不良。

因此,如何提高防止掩膜板组件中的图形化掩膜板发生变形成为本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩膜板框架组件和一种掩膜板模组,所述掩膜板模组上的图形化掩膜板不容易产生变形。

为了实现上述目的,作为本发明的一个方面,提供一种用于蒸镀的掩膜板框架组件,所述掩膜板框架组件包括框架和开口掩膜板,所述开口掩膜板包括掩膜板本体和设置在所述掩膜板本体边缘处的多个固定条,所述框架包括框架本体,其中,所述开口掩膜板与所述框架层叠设置,且所述掩膜板本体的一部分与所述框架本体重叠,所述固定条位于所述框架本体上。

优选地,所述框架包括形成在所述框架本体上的主开口,所述框架本体上还设置有容纳槽,所述容纳槽包括第一容纳槽和多个第二容纳槽,所述第一容纳槽位于所述框架本体的内边缘处,且与所述主开口相通,所述掩膜板本体上与所述框架本体重叠的部分设置在所述容纳槽中,多个所述第二容纳槽与多个所述固定条一一对应,所述第二容纳槽的一端开口与所述第一容纳槽相通,所述第二容纳槽的另一端开口形成在所述框架本体的外侧表面上,所述固定条设置在所述第二容纳槽中。

优选地,所述掩膜板本体的上表面与所述框架本体上未设置所述容纳槽的部分的上表面平齐。

优选地,所开口掩膜板通过点焊的方式固定在所述框架本体上,且点焊形成的焊点位于所述第一容纳槽的边缘处以及所述第二容纳槽的边缘处。

优选地,所述掩膜板本体上与所述框架本体重叠的部分的宽度不小于两个焊点的宽度之和。

优选地,所述开口掩膜板满足以下条件中的一者:

所述开口掩膜板的厚度为0.03mm,所述焊点的宽度为0.5mm;

所述开口掩膜板的厚度为0.15mm,所述焊点的宽度为0.8mm;

所述开口掩膜板的宽度为0.1mm,所述焊点的宽度为0.6mm。

优选地,多个所述面板开口排列为多行多列,相邻两行所述面板开口之间的部分相对应的位置处设置有所述固定条,且相邻两列所述面板开口之间的部分对应的位置处设置有所述固定条。

优选地,所述开口掩膜板的厚度为0.1mm,每个所述固定条的宽度均不小于1.5mm。

优选地,所述开口掩膜板的厚度为0.15mm,每个所述固定条的宽度均不小于1mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810612835.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top