[发明专利]量化柔性屏体弯折应力的方法

权利要求书

1.一种量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，包括：

在所述屏体表面设置结构色薄膜，所述结构色薄膜具有微结构，所述微结构在应力作用下发生改变以表现出不同的颜色，所述结构色薄膜包括柔性衬底层和结构色层，所述柔性衬底层的一侧表面上形成有规则排布的若干个凸起结构，所述凸起结构与所述柔性衬底层为一体结构，所述结构色层覆盖在所述凸起结构的侧壁上，所述结构色薄膜以背向于凹槽结构的一侧贴附在所述屏体表面上；

对所述屏体施加应力，以使所述屏体和所述结构色薄膜产生弯折形变；

检测所述屏体表面的结构色薄膜的颜色分布；

根据所述结构色薄膜的颜色分布与预设的颜色分布和应力分布之间的对应关系，计算所述屏体弯折时的应力分布。

2.根据权利要求1所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，所述预设的颜色分布和应力分布之间的对应关系通过如下方式获得：

准备一结构色薄膜作为测试结构色薄膜；

对所述测试结构色薄膜施加不同定量的应力；

测量所述测试结构色薄膜在不同应力下对应的颜色数据；

根据应力与对应的颜色数据之间的对应关系，确定所述测试结构色薄膜的颜色分布与应力分布之间的对应关系。

3.根据权利要求2所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，所述颜色数据包括色坐标和/或光波峰位值。

4.根据权利要求1所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，所述凸起结构的高度为60nm-300nm。

5.根据权利要求4所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，所述结构色薄膜采用如下方式制备：

于基板上沉积氧化物形成氧化层；

于所述氧化层上涂覆光刻胶；

对所述光刻胶进行曝光、显影；

根据光刻胶的显影结构刻蚀所述氧化层，以在基板上形成包括氧化层和光刻胶的凸起结构；

于所述凸起结构的裸露表面形成连续的结构色层；

于所述结构色层上沉积有机物形成柔性衬底层；

剥离所述基板；

刻蚀剩余的氧化层和光刻胶，形成所述结构色薄膜。

6.根据权利要求5所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，所述氧化物包括氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的任一种。

7.根据权利要求5所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，所述结构色层包括金属膜或无机氧化物。

8.根据权利要求5所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，所述有机物包括耐高温聚酯、聚酰亚胺和聚二甲基硅氧烷中任一种。

9.根据权利要求1所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，在所述屏体表面设置结构色薄膜包括：将所述结构色薄膜通过粘性材料粘附于所述屏体表面。

10.根据权利要求1所述的量化柔性屏体弯折应力的方法，其特征在于，相邻两所述凸起结构之间的距离为100nm-1000nm。