[发明专利]一种用于测序芯片清洗的试剂及其制备方法和应用有效
申请号: | 201810542121.7 | 申请日: | 2018-05-30 |
公开(公告)号: | CN108913376B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 刘晨;黄金;田志坚;许振朋;丁芬;吴昊 | 申请(专利权)人: | 武汉华大医学检验所有限公司 |
主分类号: | C11D1/66 | 分类号: | C11D1/66;C11D3/04;C11D3/20;C11D3/33;C11D3/37;C11D3/60 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 李小焦;彭家恩 |
地址: | 430073 湖北省武汉市东湖开发区高新大道*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 芯片 清洗 试剂 及其 制备 方法 应用 | ||
本申请公开了一种用于测序芯片清洗的试剂及其制备方法和应用。本申请用于测序芯片清洗的试剂,包含柠檬醇、皂角提取液、氢氧化钾、EDTA、环氧大豆油、聚醚改性硅油、乙醇和纯水。本申请的测序芯片清洗试剂,针对测序芯片的油污等污染源设计其组分,并采用多种植物提取物作为活性去污剂,试剂中各组分相配合能有效的对测序芯片进行清洗,去除其表面油污等杂质,清洗后不留斑,不起雾,清洗效果好。并且,本申请的试剂,不含氯化物和低芳香烃,主要活性成份为植物提取物,环保、安全、稳定,不含任何卤素成份,因此不会破坏臭氧层;为测序芯片提供了一种专用的清洗试剂。
技术领域
本申请涉及测序芯片清洗领域,特别是涉及一种用于测序芯片清洗的试剂及其制备方法和应用。
背景技术
测序芯片清洗的目的是为了确保测序芯片干净、无污染,进而保障测序质量。目前尚没有专门的测序芯片清洗试剂,也缺乏相应的研究和报道。实践中,通常根据芯片厂商的建议采用乙醇和异丙醇进行芯片清洗即可。乙醇和异丙醇的作用是溶解去除有机物、加快挥发,达到测序芯片清洗的效果。但是,异丙醇毒性较大,具有明显麻醉作用,对眼、呼吸道的黏膜有刺激作用,会损伤视网膜及视神经;已被世界卫生组织国际癌症研究机构列入在3类致癌物清单中。并且,乙醇和异丙醇的清洗效果不好,而且容易分解、挥发,特别是温度偏高的储存条件下,会发生分解导致清洗剂失效。
因此,有必要研发一种新的专用于测序芯片清洗的试剂,以保障清洗效果和测序质量。
发明内容
本申请的目的是提供一种新的用于测序芯片清洗的试剂,以及该试剂的制备方法和应用。
为了实现上述目的,本申请采用了以下技术方案:
本申请一方面公开了用于测序芯片清洗的试剂,包含柠檬醇、皂角提取液、氢氧化钾、EDTA、环氧大豆油、聚醚改性硅油、乙醇和纯水。
需要说明的是,本申请的测序芯片清洗试剂,其中,柠檬醇为醇类物质,非极性分子可以溶解测序芯片表面的油污,且无毒、气味清新;皂角提取液,是以皂角为原材料提取植物源表面活性剂,作为表面活性剂,能够降低污垢与物体之间的吸附程度,去除污渍;氢氧化钠能够使油脂水解成可溶性的甘油和高级脂肪酸钠;EDTA能和碱金属、稀土元素和过渡金属等形成稳定的水溶性络合物,用于去除金属离子;环氧大豆油和聚醚改性硅油作为稳定剂,能提高溶液的稳定性,提高本申请测序芯片清洗试剂的热稳定性和光稳定性;而乙醇和纯水作为基础溶剂,将以上各组分溶解调和在一起。
本申请用于测序芯片清洗的试剂,化学安全性稳定,不含氯化物和低芳香烃,其主要活性成份为柠檬醇、皂角提取液、环氧大豆油等植物提取物,环保、安全、稳定,不含任何卤素成份,因此不会破坏臭氧层,实践证实,采用本申请用于测序芯片清洗的试剂对测序芯片进行清洗,能够有效去除表面油污等杂质,清洗后不留斑,不起雾,清洗效果好。在相同条件下,相比于一般的乙醇和异丙醇清洗试剂,采用本申请的测序芯片清洗试剂,其对测序芯片的清洗效果更好,因此,更能保障并提高测序质量;在本申请的一种实现方式中,相同的测序文库和测序方法,采用本申请试剂进行测序芯片的清洗,获得的测序Q30值和FP%都明显高于,采用乙醇和异丙醇清洗的测序芯片。其中,起雾主要是指,清洗后在芯片表面形成小液滴,这些小液滴会影响测序过程中的激光聚焦拍照。因此,作为测序芯片清洗的试剂,清洗后不能起雾。
优选的,本申请用于测序芯片清洗的试剂,由质量分数10%-25%的柠檬醇、5%-14%的皂角提取液、8%-20%的氢氧化钾、0.3%-2%的EDTA、1-7%的环氧大豆油、0.1-3%的聚醚改性硅油、10%-20%的乙醇和23%-60%的纯水组成。
优选的,本申请的一种实现方式中,优选的,用于测序芯片清洗的试剂,由质量分数20%的柠檬醇、8%的皂角提取液、10%的氢氧化钾、2%的EDTA、5%的环氧大豆油、3%的聚醚改性硅油、20%的乙醇和32%的纯水组成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华大医学检验所有限公司,未经武汉华大医学检验所有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810542121.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种去除矿山机械表面油污的低泡处理剂
- 下一篇:油污清洁剂