[发明专利]一种用于测序芯片清洗的试剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种用于测序芯片清洗的试剂，其特征在于：包含柠檬醇、皂角提取液、氢氧化钾、EDTA、环氧大豆油、聚醚改性硅油、乙醇和纯水；

所述柠檬醇的质量分数为10%-25%，所述皂角提取液的质量分数为5%-14%，所述氢氧化钾的质量分数为8%-20%，所述EDTA的质量分数为0.3%-2%，所述环氧大豆油的质量分数为1%-7%，所述聚醚改性硅油的质量分数为0.1%-3%，所述乙醇的质量分数为10%-20%，所述纯水的质量分数为23%-60%。

2.根据权利要求1所述的试剂，其特征在于：所述柠檬醇的质量分数为20%，皂角提取液的质量分数为8%，氢氧化钾的质量分数为10%，EDTA的质量分数为 2%，环氧大豆油的质量分数为5%，聚醚改性硅油的质量分数为3%，乙醇的质量分数为20%，纯水的质量分数为32%。

3.根据权利要求1或2所述的试剂的制备方法，其特征在于：包括向纯水中加入柠檬醇、皂角提取液、氢氧化钾、EDTA、乙醇，密闭搅拌反应，然后再加入环氧大豆油和聚醚改性硅油，搅拌均匀，即获得用于测序芯片清洗的试剂。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：所述密闭搅拌反应的时间为0.5h-1h。

5.根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于：所述搅拌均匀的搅拌时间为10min-20min。