[发明专利]一种镁合金微弧氧化处理工艺在审
申请号: | 201810534125.0 | 申请日: | 2018-05-29 |
公开(公告)号: | CN108531963A | 公开(公告)日: | 2018-09-14 |
发明(设计)人: | 陈孝;张琳娜 | 申请(专利权)人: | 陈孝 |
主分类号: | C25D11/30 | 分类号: | C25D11/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610041 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 储液壳体 镁合金 微弧氧化处理 容纳空腔 储液壳 电解液 收集箱 储罐 内腔 流出 隔板 微弧氧化设备 自动化生产 传送机构 底部开口 分类处理 内部空腔 生产效率 微弧氧化 一端连接 体内腔 捞出 体内 | ||
本发明涉及镁合金微弧氧化技术领域,具体的说是一种镁合金微弧氧化处理工艺,本工艺中采用的微弧氧化设备的储液壳体的内腔底部设有打开机构,能控制储液壳体的内腔底部开口打开,方便储液壳体内腔中的电解液流出。储液壳体的底部位于打开机构的底部设有暂储罐,且储液壳体的底部设有收集箱,暂储罐处于所述收集箱内,隔板将收集箱的内部空腔隔成两个第一容纳空腔和第二容纳空腔,实现分开收集从储液壳体内流出的电解液,方便分类处理。储液壳体的一侧连接有传送机构,储液壳体的另一端连接有捞出机构,能够实现连续和自动化生产,提高生产效率,减少工人成本。
技术领域
本发明涉及镁合金微弧氧化技术领域,具体的说是一种镁合金微弧氧化处理工艺。
背景技术
微弧氧化处理是一种在有色金属表面原位生长氧化物陶瓷的新技术。采用微弧氧化技术对镁及其合金材料进行表面陶瓷化处理,具有工艺过程简单,占地面积小,工艺处理能力强,生产效率高,适用于批量工业化生产等优点。微弧氧化电解液不含有毒物质和重金属元素,电解液(环保型)抗污染能力强和再生重复使用率高,因而对环境污染小,满足环保、清洁生产的需要;通过改变工艺参数获取具有不同特性的氧化膜层,以满足不同用途的需要;也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色;还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理,以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。
在镁合金微弧氧化过程中存在电解液难以更换,电解液不易分类收集和处理,不能连续性加工生产等问题。鉴于此,本发明提供了一种镁合金微弧氧化处理工艺,其具有以下特点:
(1)本发明所述的一种镁合金微弧氧化处理工艺,储液壳体的内腔底部设有打开机构,能控制储液壳体的内腔底部开口打开,方便储液壳体内腔中的电解液流出。
(2)本发明所述的一种镁合金微弧氧化处理工艺,储液壳体的底部位于打开机构的底部设有暂储罐,且储液壳体的底部设有收集箱,暂储罐处于所述收集箱内,隔板将收集箱的内部空腔隔成两个第一容纳空腔和第二容纳空腔,且暂储罐之间与第一容纳空腔和第二容纳空腔中的通道处分别设有第一电磁阀和第二电磁阀,实现分开收集从储液壳体内流出的电解液,方便分类处理。
(3)本发明所述的一种镁合金微弧氧化处理工艺,储液壳体的一侧连接有传送机构,储液壳体的另一端连接有捞出机构,能够实现连续和自动化生产,提高生产效率,减少工人成本。
发明内容
针对现有技术中的问题,本发明提供了一种镁合金微弧氧化处理工艺,储液壳体的内腔底部设有打开机构,能控制储液壳体的内腔底部开口打开,方便储液壳体内腔中的电解液流出。储液壳体的底部位于打开机构的底部设有暂储罐,且储液壳体的底部设有收集箱,暂储罐处于所述收集箱内,隔板将收集箱的内部空腔隔成两个第一容纳空腔和第二容纳空腔,且暂储罐之间与第一容纳空腔和第二容纳空腔中的通道处分别设有第一电磁阀和第二电磁阀,实现分开收集从储液壳体内流出的电解液,方便分类处理。储液壳体的一侧连接有传送机构,储液壳体的另一端连接有捞出机构,能够实现连续和自动化生产,提高生产效率,减少工人成本。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种镁合金微弧氧化处理工艺,该工艺包括以下步骤:
S1,将镁合金工件放入超声波清洗设备中,清洗液中添加粒径为纳米级的磨料,利用超声波清洗设备对镁合金工件的表面进行精细打磨;
S2,将S1中打磨后的镁合金工件放入清洗设备中,利用蒸馏水对镁合金工件进行清洗;
S3,将S2中清洗后的镁合金放入微弧氧化设备中进行氧化处理;
S4,将S3中处理后的镁合金工件再次放入清洗设备中清洗,利用蒸馏水对镁合金工件进行清洗;
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