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[实用新型]一种含异质材料镁合金件微弧氧化装置-CN202020020041.8有效
发明人：赵李斌;赵韩欣;张红芳 -专利权人：山西银光华盛镁业股份有限公司
申请日： 2020-01-06 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： C25D11/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种含异质材料镁合金件微弧氧化装置，涉及金属表面处理技术领域；解决含异质材料镁合金件无法同槽微弧氧化处理的技术问题；具体包括微弧氧化槽、微弧氧化电源、连接导线，含异质材料的镁合金件置于微弧氧化槽内，微弧氧化槽与微弧氧化电源相连接，镁合金件上的异质材料通过连接导线与微弧氧化电源的阳极相连接；在微弧氧化过程中，异质金属与镁合金共同作为阳极参与反应，避免了其本身与镁合金之间产生电偶作用而出现腐蚀或锈蚀，简化了微弧氧化的工艺难度，避免后续组装对微弧氧化面造成的损伤，提高了微弧氧化效率。
一种含异质材料镁合金件微弧氧化装置

[发明专利]去微弧氧化膜层药剂及其方法-CN201710778217.9在审
发明人：李连成 -专利权人：昆山汉鼎精密金属有限公司
申请日： 2017-09-01 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明涉及微弧氧化技术领域，具体是涉及一种去微弧氧化膜层药剂及其方法。该去微弧氧化膜层药剂，以浓度计，包括：乳酸、a‑氨基酸、柠檬酸、植酸钠、己二酸中的至少一种，2‑5g/L；溶剂是去离子水。去微弧氧化膜层的方法包括：将工件放置在所述去微弧氧化膜层药剂中反应一段时间；反应过程中不断刷洗工件的微弧氧化膜层处，使其与去微弧氧化膜层药剂充分反应；反应时间到后，将工件的微弧氧化膜层剥除；对工件进行后处理相较于现有技术，本发明的去微弧氧化膜层药剂能够去除微弧氧化膜层，去除掉后的工件可以再次微弧氧化。本发明的污染小、成本低，清除微弧氧化膜层彻底。由此解决了微弧氧化工件剥除微弧氧化膜层效果不佳的问题。
微弧氧化膜层微弧氧化剥除工件放置去离子水后处理柠檬酸己二酸浓度计植酸钠氨基酸除掉去除溶剂乳酸污染

[发明专利]去微弧氧化膜层药剂、去微弧氧化膜层方法-CN201710333096.7在审
发明人：李连成 -专利权人：昆山汉鼎精密金属有限公司
申请日： 2017-05-12 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明涉及微弧氧化技术领域，具体是涉及一种去微弧氧化膜层药剂、去微弧氧化膜层方法，用于对不良品工件进行去微弧氧化膜层处理。该去微弧氧化膜层药剂，以浓度计，包括：有机酸，45g/L‑60g/L，溶剂是去离子水。去微弧氧化膜层的方法包括：首先，将不良品工件浸没在所述去微弧氧化膜层药剂中；同时，用铜刷刷洗不良品工件的表面；其后，清除掉表面由灰白变黑的微弧氧化膜层，清洗烘干之后即可进行再次微弧氧化。本发明的去微弧氧化膜层药剂能够去除微弧氧化膜层，去除掉后，相关工件可以重新进行微弧氧化，并且其性能不会受到影响。
微弧氧化膜层微弧氧化不良品清洗烘干去离子水浓度计有机酸浸没溶剂变黑除掉去除

[发明专利]一种可变阴极面积的微弧氧化装置及表面处理方法-CN202111269197.5在审
发明人：范晓杰;卢金武;马小飞;李长亮 -专利权人：西安庄信新材料科技有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种可变阴极面积的微弧氧化装置及表面处理方法，属于表面处理技术领域。该微弧氧化装置包括微弧氧化槽、循环槽、升降机构、冷却循环机构和电源机构，微弧氧化槽侧部设有注入口和流出口，流出口端设有液位控制件，微弧氧化槽的底部设有工件通道；微弧氧化槽内的阴极构件与电源机构负极连接；微弧氧化槽的上方设有升降机构，升降机构上设有连接电源机构正极的阳极构件；微弧氧化槽的下方设有循环槽，微弧氧化槽与循环槽相互连接并能够冷却流向注入口的电解液。该可变阴极面积的微弧氧化装置不仅提高了微弧氧化膜层的生长速率，缩短了加工周期，实现了微弧氧化膜层生产效率的提高，而且电解液能够循环利用，实现了生产能耗的降低。
一种可变阴极面积氧化装置表面处理方法

[发明专利]定量评估铝基板表面微弧氧化膜散热性和绝缘性的方法-CN202210477013.2在审
发明人：陈凡;杜林;赵立有;张超;陈龙;王昆黍 -专利权人：上海精密计量测试研究所
申请日： 2022-05-02 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G01N25/20 文献下载
摘要：本发明的定量评估铝基板表面微弧氧化膜散热性和绝缘性的方法包括：制备微弧氧化膜厚度不同的铝合金基板作为标定基板；表征铝合金基板表面微弧氧化膜厚度与铝合金基板绝缘性能的关系；在各标定基板上封装LED芯片制得标定样品；采用瞬态热阻法测试各标定样品的热阻；根据微分函数曲线确定微弧氧化膜厚度与微弧氧化膜热阻的独立关系；根据微弧氧化膜厚度、微弧氧化膜热阻和铝合金基板绝缘性能的关系，判定微弧氧化膜的安全厚度范围。本发明解决了现有技术既无法独立评估铝基板表面微弧氧化膜厚度对微弧氧化膜热阻的影响，又没有确定微弧氧化膜最小临界厚度的问题。
定量评估铝基板表面氧化散热绝缘性方法

[发明专利]以自来水为溶剂的微弧氧化电解液、方法及其产品-CN201810173107.4在审
发明人：李连成 -专利权人：昆山汉鼎精密金属有限公司
申请日： 2018-03-02 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明涉及微弧氧化技术领域，具体是涉及一种以自来水为溶剂的微弧氧化电解液、方法及其产品。该微弧氧化电解液包括：硅酸盐9‑15g/L；磷酸盐5‑12g/L；氟化钾6‑10g/L；碱性调节剂4‑8g/L；二乙醇胺0.5‑1.2g/L；溶剂为自来水；该微弧氧化方法包括：(1)配制微弧氧化电解液；(2)对所述微弧氧化电解液预处理；(3)设置微弧氧化电源；(4)对试制片进行微弧氧化处理；(5)清洗所述试制片并烘干。相较于现有技术，本发明的微弧氧化电解液能够直接以自来水作为溶剂配制微弧氧化电解液，并且由此微弧氧化电解液处理得到的陶瓷膜在盐雾测试、涂层网格切割测试等方面与相同条件下使用去离子水配制微弧氧化电解液的效果相同
微弧氧化电解液自来水溶剂微弧氧化试制配制微弧氧化处理微弧氧化电源预处理碱性调节剂硅酸盐二乙醇胺去离子水溶剂配制盐雾测试氟化钾磷酸盐陶瓷膜烘干网格切割清洗测试

[实用新型]一种基体金属微弧氧化处理用微弧氧化槽-CN201920714108.5有效
发明人：喻绍森 -专利权人：苏州斯瑞克新材料科技有限公司
申请日： 2019-05-18 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基体金属微弧氧化处理用微弧氧化槽，包括微弧氧化槽装置和楼梯，所述微弧氧化槽装置内部底端位置处设置有底部处理板，所述微弧氧化槽装置内部前后两端中间位置处套接有滑动电极装置，所述微弧氧化槽装置内部位置处设置有微弧氧化处理液，因为安装有微弧氧化槽装置和滑动电极装置，所以在长时间使用微弧氧化槽的时候，工作人员就需要对滑动电极装置进行更换，这时候通过向上移动滑动电极装置，使得滑动电极装置中的滑动体在微弧氧化槽装置中的滑动槽内部向上移动，从而使得滑动电极装置与微弧氧化槽装置滑动分离，方便了滑动电极装置的更换和清洗，同时也避免了电极体的损坏，这样不仅提高了更换效率，而且还降低了设备的损坏率。
一种基体金属氧化处理用微弧

[发明专利]一种提高铝材表面抗磨蚀性能的方法-CN202310120461.1在审
发明人：周海飞;李凤瑞;周正强;陆伟;冒新国;缪姚军;迟一鸣;王帅星;张新房;周琼;周宇通;谢惠芬;汤瀚博;李延伟;温小涵 -专利权人：国网浙江省电力有限公司电力科学研究院;国网浙江省电力有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C25D11/18 文献下载
摘要：本发明采用的技术方案包括：配制含有第一微粒的溶液体系，用含有第一微粒的溶液体系对试样表面进行微弧氧化处理，形成复合微弧氧化膜，所述的复合微弧氧化膜包括试样表面形成的微弧氧化膜和弥散于微弧氧化膜中的第一微粒，所述的第一微粒选用粒径略大于微弧氧化膜孔洞直径且与微弧氧化膜成分相同的微粒；激光处理：在所得试样的复合微弧氧化膜表面预置第二微粒，形成陶瓷粉膜，对陶瓷粉膜的表面进行激光处理。本发明利用有针对性的激光处理技术改进微弧氧化膜，大幅减少微弧氧化膜的孔洞和裂纹，从而明显提高了铝材表面的抗磨蚀性能。
一种提高表面磨蚀性能方法

[发明专利]铝合金表面局部机械强化与微弧氧化的复合加工方法-CN202010802909.4在审
发明人：徐磊;卞琦 -专利权人：苏州村野智能科技有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C25D11/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种铝合金表面局部机械强化与微弧氧化的复合加工方法，涉及微弧氧化技术领域，包括以下步骤：S1、在铝合金表面上确定待微弧氧化部位；S2、在待微弧氧化部位周围按预设标准选取加工区域；S3、在加工区域进行整体塑性强化加工；S4、在待微弧氧化部位进行局部微弧氧化加工。本发明具有防止浪费能源、提高微弧氧化过程中工件表面的机械性能以及增强微弧氧化形成的复合层的疲劳强度的优点。
铝合金表面局部机械强化氧化复合加工方法

[发明专利]一种提高锆合金表面微弧氧化成膜速率的方法-CN202110483035.5有效
发明人：聂照;钱辰;邓泽;刘磊;董帅;董杰 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C25D11/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高锆合金表面微弧氧化成膜速率的方法，属于表面处理技术领域。该方法使用变化的频率进行锆合金微弧氧化，微弧氧化时间在1–2min之前使用的微弧氧化脉冲频率为100–1000Hz，在1–2min之后使用的微弧氧化脉冲频率为10000–30000Hz。本发明通过改变频率对锆合金表面的微弧氧化成膜速率进行控制，区别于增大电流密度提高微弧氧化的成膜速率。本发明仅通过改变频率即可实现提高微弧氧化膜层的成膜速率，操作简单。
一种提高合金表面氧化速率方法

[发明专利]微弧氧化工件防EMI和抗菌效果的加工工艺-CN200710131346.5无效
发明人：郭雪梅;吴政道 -专利权人：汉达精密电子（昆山）有限公司
申请日： 2007-08-28 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种微弧氧化工件防EMI和抗菌效果的加工工艺，其工艺流程为：选定基材→基材表面前处理→微弧氧化处理→微弧氧化工件表面处理→EMI溅镀处理→电泳涂装处理，先对选定基材进行表面前处理和微弧氧化处理，得到微弧氧化工件；并对微弧氧化工件进行清洗，然后将微弧氧化工件表面上通过EMI溅镀处理镀上金属层，以使微弧氧化工件表面具有防EMI和导电性；将具导电的微弧氧化工件进行电泳涂装处理，且电泳涂装的涂料采用抗菌电泳涂料
氧化工件 emi 抗菌效果加工工艺

[发明专利]二步法铸铝合金微弧氧化处理方法-CN201310427048.6无效
发明人：马婕;王守超;杨院生;伊希斌;王修春;张晶;刘硕 -专利权人：山东省科学院新材料研究所;济南优肯特锐科技有限公司
申请日： 2013-09-18 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： C25D11/12 文献下载
摘要：二步法铸铝合金微弧氧化处理方法，涉及微弧氧化膜层的制备方法，特别涉及在铸铝合金表面制备预氧化膜及微弧氧化膜的方法。本方法工艺步骤如下：（1）将铸铝合金样品放入电解液中进行预氧化处理；（2）将预氧化后的铸铝合金样品冲洗，干燥；（3）将干燥后的铸铝合金样品放入电解液中进行微弧氧化处理；（4）将微弧氧化处理后的铸铝合金样品冲洗本方法主要解决铸铝合金微弧氧化过程中能耗较高的问题，显著降低铸铝合金微弧氧化处理耗电量，缩短微弧氧化时间，处理过程对环境无污染，对促进微弧氧化技术在铸铝合金工件表面防护领域的推广应用具有重要意义和实用价值
步法铝合金氧化处理方法

[发明专利]一种镁合金表面自封孔微弧氧化膜的制备方法-CN202111124723.9在审
发明人：尚伟;马宸;张志远;温玉清;彭宁 -专利权人：桂林理工大学
申请日： 2021-09-25 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C25D11/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种镁合金表面自封孔微弧氧化膜的制备方法。首先，将AZ91镁合金打磨、水洗，碱洗，水洗，超声波清洗。然后，配制微弧氧化电解液，将AZ91镁合金放入微弧氧化电解液中作为阳极进行微弧氧化处理，阴极为不锈钢，采用四次升压氧化方式，并在升压过程中于微弧氧化电解液中滴加二氧化钛溶胶。最后，取出AZ91镁合金于50℃下干燥，即制得镁合金表面自封孔微弧氧化膜。本发明采用一步原位制备无孔微弧氧化膜，在微弧氧化的同时实现自封孔，所制得的镁合金表面微弧氧化膜呈无孔结构，表面平整，无微裂纹，且能够提高镁合金的耐蚀性。
一种镁合金表面自封孔微弧氧化制备方法

[发明专利]多层复合微弧氧化陶瓷膜层的制备方法-CN201110135347.3无效
发明人：高谊恬 -专利权人：昆山金利表面材料应用科技股份有限公司
申请日： 2011-05-24 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种多层复合微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，用反复印刷，喷涂及去除抗微弧氧化物质与微弧氧化技术结合的方式，在轻金属产品或轻金属合金产品上控制微弧氧化陶瓷膜生成的图案、厚度或者颜色等。采用这样的方法，可以控制微弧氧化陶瓷膜生成更多的陶瓷膜层。在制备过程中还可以配合调整微弧氧化药液和/或微弧氧化条件，可以进一步控制微弧氧化陶瓷膜生成更多的陶瓷膜层。
多层复合氧化陶瓷膜制备方法

[发明专利]一种微弧氧化膜层的制备方法-CN201010125368.2有效
发明人：穆耀钊;张镜斌;王育召;杨艳 -专利权人：中国船舶重工集团公司第十二研究所
申请日： 2010-03-17 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明公开的一种微弧氧化膜层的制备方法，具体按照以下步骤实施：对工件表面进行去污除油；将工件置于装有氧化液的氧化槽中，工件接正极，氧化槽接负极，进行微弧氧化处理；微弧氧化处理后用去离子水清洗，烘干，预热，用激光进行扫描处理，得到本发明微弧氧化膜层。本发明微弧氧化膜层的制备方法，解决了现有的制备方法制备得到的微弧氧化膜层孔隙率大、耐磨性差的问题，使微弧氧化膜层中的亚稳定相转变为稳定相，大幅提高微弧氧化膜层的耐磨耐蚀性能，可以利用激光加工的灵活性，有选择性的对其进行局部处理
一种氧化制备方法

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