[发明专利]一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备有效

专利信息
申请号: 201810503730.1 申请日: 2018-05-23
公开(公告)号: CN108754456B 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 陈蓉;黄奕利;单斌;李云;曹坤;但威;王晓雷 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 梁鹏;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 原子层沉积 薄膜制备设备 基底 液压传动模块 喷头 喷头模块 下曲面 常压 沉积 常温常压 改变方向 进出油口 空间隔离 喷头转动 喷头总体 曲面曲率 设备领域 升降运动 实时获取 现有设备 相对连接 作业效率 气浮区 自调整 转阀 配备 制造 帮助
【权利要求书】:

1.一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备,该设备包括喷头模块及对应配备的液压传动模块,其特征在于:

所述喷头模块被设定为仅执行竖直方向的升降运动及环绕自身的旋转运动,并且它朝向待沉积薄膜基底的喷头表面区域具备气浮调整区(101)、惰性气体隔离通道(102)、第一前驱体通道(104)、第二前驱体通道(105)、惰性气体清洗通道(106)和排气通道(103),其中该气浮调整区(101)围绕于整个喷头表面区域的最外缘而设置,并经由多个节流小孔相对于曲面基底来喷射形成具备一定厚度的气膜层;该惰性气体隔离通道(102)相对于所述气浮调整区布置于所述喷头表面区域的相对内侧,并用于通入惰性气体以便隔绝外界环境,由此形成一个相对封闭的沉积反应空间;该第一前驱体通道(104)通有第一种前驱体,它用于在曲面基底的一个运动行程中,使得该第一种前驱体首先接触到基底表面并与其发生第一个半反应;该第二前驱体通道(105)通有不同于第一种前驱体的第二种前驱体,并随着基底在本行程的继续向前运动,使得该第二种前驱体接触到基底表面,并与其发生第二个半反应由此生产一层原子级别的薄膜;该惰性气体清洗通道(106)布置于所述第一前驱体通道(104)与所述第二前驱体通道(105)之间,并用于将两种前驱体进行隔离,同时将完成各个半反应后的反应产物及剩余反应物从喷头表面区域执行清洗,然后通过所述排气通道(103)带到外界环境中;

所述液压传动模块包括转阀、液压泵(301)、推杆(303)和油箱(302),其中该转阀具备转阀阀体(305)和安装其中的转阀阀芯(306),同时借助于所述液压泵向其内部持续泵入液压油,所述转阀阀体(305)被设定为与所述推杆(303)固连在一起且不随着所述喷头模块的转动而转动,所述转阀阀芯(306)则被设定为与所述喷头模块的喷头转角始终保持一致,由此当喷头发生转动时会带动此转阀阀芯也转动一定角度,相应促使液压油推入所述推杆(303)自身所具备的腔体的上部或者下部;该推杆(303)则在其腔体上部或者下部的液压油量发生变化后,相应带动与之相连的所述喷头模块沿着竖直方向执行向上或者向下的运动调整,由此确保所述喷头与曲面基底的表面保持恒定水平;此外,该油箱通过多个回路与所述转阀阀芯保持连通,并用于回收液压油。

2.如权利要求1所述的原子层沉积薄膜制备设备,其特征在于,对于所述喷头模块而言,其呈模块化结构且可执行所需方向上的自由扩展,并且各个模块化结构各自对应配套有独立的所述转阀、液压泵和推杆这些组件。

3.如权利要求1或2所述的原子层沉积薄膜制备设备,其特征在于,对于所述液压传动模块而言,其还包括安装在所述油箱的一个调速回路中的电液比例流量阀。

4.如权利要求1或2所述的原子层沉积薄膜制备设备,其特征在于,对于上述原子层沉积薄膜制备设备中所有可执行运动的组件而言,它们被设计有闭环的自反馈功能。

5.如权利要求1或2所述的原子层沉积薄膜制备设备,其特征在于,所述气膜层的厚度被设定为微米量级。

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