[发明专利]一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统

权利要求书

1.一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，该光刻系统包括相干光源、分束器、第一反射镜，第二反射镜，第一针孔滤波器，第二针孔滤波器，第一准直透镜，第二准直透镜；第一体布拉格光栅、第二体布拉格光栅、第一光电探测器、第二光电探测器；

相干光源发出的光经过分束器后被分成透射光路和反射光路；沿着光传播方向反射光路上依次放置第一反射镜、第一针孔滤波器、第一准直透镜；透射光路上依次放置第二反射镜、第二针孔滤波器、第二准直透镜；反射光路经过第一准直透镜后的光作为第一曝光光束，透射光路经过第二准直透镜后的光作为第二曝光光束；

其特征在于：

以靠近相干光源端为前，光传播方向为后；第一准直透镜的后方放置第一体布拉格光栅，所述的第一体布拉格光栅口径小于第一准直透镜口径，且第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅的入射角等于第一体布拉格光栅的布拉格角，第一光电探测器放置在第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上，用于测量其-1级透射衍射光的衍射效率；

第二准直透镜的后方放置第二体布拉格光栅，所述的第二体布拉格光栅口径小于第二准直透镜口径，且第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅的入射角等于第二体布拉格光栅的布拉格角，第二光电探测器放置在第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上，用于测量其-1级透射衍射光的衍射效率。

2.根据权利要求1所述的制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，其特征在于：

所述的第一曝光光束与第二曝光光束沿着待曝光全息记录干版法线方向对称排布，并且满足2dsinθ＝λ，其中d为待制作全息光栅的周期，λ为相干光源波长，θ为第一曝光光束与第二曝光光束夹角的一半。

3.根据权利要求1或2所述的制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，其特征在于：

第一针孔滤波器安装在第一PZT平移台上，第二针孔滤波器安装在第二PZT平移台上；

第一光电探测器与第二光电探测器的测试数值实时反馈至对应的第一PZT平移台与第二PZT平移台；第一光电探测器与第二光电探测器的测试数值发生变化时，第一PZT平移台与第二PZT平移台分别沿光轴方向移动使第一光电探测器与第二光电探测器的测试数值为最大值。

4.根据权利要求3所述的制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，其特征在于：所述的第一准直透镜与第二准直透镜为平凸非球面准直透镜。