[发明专利]定位处理方法、装置、服务器及存储介质

权利要求书

1.一种定位处理方法，其特征在于，包括：

接收定位请求，所述定位请求包括待定位目标的第一指纹；

根据预配置的位置指纹库，确定所述第一指纹所属的指纹类为目标指纹类，所述位置指纹库中包括有至少两个指纹类，每个指纹类中包括一个或多个参考点的指纹和位置信息；

若所述第一指纹处于所述目标指纹类的边缘，则根据所述第一指纹与所述位置指纹库中各其他指纹类的中心参考点的欧氏距离确定至少一个其他指纹类为参考指纹类；

根据所述第一指纹与所述目标指纹类及所述参考指纹类中的各参考点的欧式距离，确定所述待定位目标的位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据预配置的位置指纹库，确定所述第一指纹所属的指纹类为目标指纹类，包括：

计算所述第一指纹与所述位置指纹库中各指纹类的中心参考点的欧式距离；

确定与所述第一指纹的欧式距离最小的中心参考点对应的指纹类为所述目标指纹类。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述若所述第一指纹处于所述目标指纹类的边缘，则根据所述第一指纹与所述位置指纹库中各其他指纹类的中心参考点的欧氏距离确定至少一个其他指纹类为参考指纹类，包括：

若第一待判定值P>1，或者，L≤P≤1，其中，P＝d/D1*100％，d为所述第一指纹与所述目标指纹类的中心参考点的欧式距离，D1为所述目标指纹类中各参考点与中心参考点的最大欧式距离，L为第一预设阈值，0＜L＜1；并且，

对于所述位置指纹库中的每个其他指纹类，若第二待判定值S满足判定条件1≤S≤T，其中，S＝D2/d*100％，D2为所述第一指纹与所述其他指纹类的中心参考点的欧式距离，d为所述第一指纹与所述目标指纹类的中心参考点的欧式距离，T为第二预设阈值，T＞1，则确定所述第一指纹处于所述目标指纹类的边缘，以及所述其他指纹类为参考指纹类。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一指纹与所述目标指纹类及所述参考指纹类中的各参考点的欧式距离，确定所述待定位目标的位置，包括：

根据所述第一指纹与所述目标指纹类及所述参考指纹类中的各参考点的欧式距离，按从小到大的顺序，选择K个参考点作为目标参考点，K为预设的正整数；

根据所述目标参考点的位置信息，采用加权K邻近WKNN算法，确定所述待定位目标的位置。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，若所述第一指纹不处于所述目标指纹类的边缘，则根据所述第一指纹与所述目标指纹类中的各参考点的欧式距离，按从小到大的顺序选择K个参考点作为所述目标参考点。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，在接收定位请求之前，所述方法还包括：

获取预设的各参考点的指纹和位置信息；

将各参考点的指纹和位置信息对应存储，建立所述位置指纹库；

采用K均值K-means聚类算法，对所述位置指纹库中的各参考点进行聚类，获得至少两个所述指纹类。

7.一种定位处理装置，其特征在于，包括：

接收模块，用于接收定位请求，所述定位请求包括待定位目标的第一指纹；

第一确定模块，用于根据预配置的位置指纹库，确定所述第一指纹所属的指纹类为目标指纹类，所述位置指纹库中包括有至少两个指纹类，每个指纹类中包括一个或多个参考点的指纹和位置信息；

第二确定模块，用于若所述第一指纹处于所述目标指纹类的边缘，则根据所述第一指纹与所述位置指纹库中各其他指纹类的中心参考点的欧氏距离确定至少一个其他指纹类为参考指纹类；

处理模块，用于根据所述第一指纹与所述目标指纹类及所述参考指纹类中的各参考点的欧式距离，确定所述待定位目标的位置。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第一确定模块，具体用于：

计算所述第一指纹与所述位置指纹库中各指纹类的中心参考点的欧式距离；

确定与所述第一指纹的欧式距离最小的中心参考点对应的指纹类为所述目标指纹类。