[发明专利]PVD滚镀装置及方法有效
申请号: | 201810396293.8 | 申请日: | 2018-04-28 |
公开(公告)号: | CN108300974B | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 陈华强;杜旭颖;华秀菊;潘毅 | 申请(专利权)人: | 深圳市正和忠信股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/35 |
代理公司: | 深圳智趣知识产权代理事务所(普通合伙) 44486 | 代理人: | 崔艳峥 |
地址: | 518100 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 托盘 镀膜室 隔板 转动驱动装置 小尺寸工件 滚镀装置 设备室 室内 镀膜 夹具 磁控靶组件 升降支撑柱 平移平台 真空镀膜 从设备 机械臂 支撑柱 挂具 装夹 转动 隔离 驱动 延伸 配置 制作 | ||
1.一种PVD滚镀装置,其特征在于,包括镀膜室和设备室,所述镀膜室和所述设备室之间由隔板隔离,所述隔板上穿设有从所述设备室延伸到所述镀膜室的主轴,所述设备室内设置有转动驱动装置,所述主轴被配置为能在所述转动驱动装置的驱动下转动;
所述镀膜室内设置有上平移平台、上升降支撑柱、磁控靶组件、第一托盘、第二托盘、机械臂和多个下升降支撑柱,所述第一托盘和所述第二托盘被配置为能相互扣合并锁紧,所述第一托盘与所述主轴可拆卸连接并能随所述主轴转动,所述机械臂的尾端固定于所述镀膜室的侧壁,所述机械臂的首端被配置为能够抓起并移动所述第一托盘和所述第二托盘,所述下升降支撑柱设置在所述镀膜室的底部并被配置为能竖直伸缩;
所述磁控靶组件包括靶材箱和由所述靶材箱的底面伸出的多个靶材,所述靶材箱的顶部固定于所述上升降支撑柱,所述上升降支撑柱固定于所述上平移平台,所述上平移平台固定于所述镀膜室的顶部。
2.根据权利要求1所述的PVD滚镀装置,其特征在于,所述设备室设置有L型支撑架,所述L型支撑架包括水平段和竖直段,所述水平段固定于所述隔板,所述主轴可转动地穿设在所述竖直段上。
3.根据权利要求2所述的PVD滚镀装置,其特征在于,所述主轴在位于所述设备室内的一端具有配重环。
4.根据权利要求3所述的PVD滚镀装置,其特征在于,所述配重环同轴固定在所述主轴上,所述配重环的外周面设置有若干个标定片,所述竖直段上固定有光电传感器,所述光电传感器与所述标定片配合以检测所述主轴的转动角度。
5.根据权利要求1或2所述的PVD滚镀装置,其特征在于,所述机械臂包括多个顺次铰接的转动关节,相邻的所述转动关节之间的结合部设置有用于使相邻的所述转动关节能够相对转动的伺服电机;
位于尾端的所述转动关节与所述镀膜室的侧壁之间也设置有伺服电机,使位于尾端的所述转动关节能够相对于所述镀膜室转动。
6.根据权利要求1或2所述的PVD滚镀装置,其特征在于,所述第一托盘具有锁槽,所述锁槽包括连为一体的直槽段和沟槽段,所述主轴的端部外周面对称地设置有锁柱,所述锁柱从所述直槽段进入所述沟槽段时所述第一托盘与所述主轴可拆卸地连接在一起。
7.根据权利要求1或2所述的PVD滚镀装置,其特征在于,所述第一托盘的正面为凸起面,所述第二托盘的正面为凹陷面,所述第一托盘和所述第二托盘扣合在一起时,所述凸起面和所述凹陷面在外边缘处相互抵接;
所述第一托盘和所述第二托盘之间设置有快速锁紧装置。
8.一种PVD滚镀方法,其特征在于,使用权利要求1-7中任一项所述的滚镀装置,进行以下操作:
S1:将盛放有工件的第一托盘放入所述镀膜室,并与所述主轴固定;
S2:对所述镀膜室抽真空,启动所述磁控靶组件,对所述工件进行磁控溅射镀膜;
S3:驱动所述机械臂,将固定于所述机械臂首端的第二托盘扣合在所述第一托盘的顶部,使所述第一托盘和所述第二托盘之间的所述工件被夹紧,所述机械臂松开所述第二托盘后复位;
S4:启动所述转动驱动装置,使所述主轴带动所述第一托盘和所述第二托盘上下交换位置,使下升降支撑柱托住所述第二托盘,然后使所述第一托盘与所述主轴和所述第二托盘分离,并利用所述机械臂首端抓取所述第一托盘后将所述第一托盘倾斜或竖直放置在靠近所述镀膜室侧壁的区域;
S5:启动所述磁控靶组件,对位于所述第二托盘内的所述工件进行磁控溅射镀膜。
9.根据权利要求8所述的PVD滚镀方法,其特征在于,在S2和/或S5中,启动所述磁控靶组件时,启动所述上平移平台,使所述磁控靶组件在水平面内移动;
和/或,在所述机械臂启动前,所述上平移平台带动所述磁控靶组件向远离所述机械臂的一侧移动,所述上升降支撑柱带动所述磁控靶组件向上移动。
10.根据权利要求8所述的PVD滚镀方法,其特征在于,在S2中,对工件进行磁控溅射镀膜时,多次沿顺时针和逆时针方向交替启动转动驱动装置,带动所述第一托盘最终相对于水平面倾斜晃动,且倾斜角度小于10度;
和/或,在S5中,对工件进行磁控溅射镀膜时,多个所述下升降支撑柱交替上升或下降,带动所述第二托盘相对于水平面倾斜晃动,且倾斜角度小于10度。
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