[发明专利]蒸发源的蒸发速率控制设备、方法、装置及存储介质

权利要求书

1.一种蒸发源的蒸发速率控制设备，其特征在于，包括：相连接的控制器和在线采集仪；

在线采集仪用于采集基板的镀膜参数，并将所述镀膜参数发送至所述控制器；

所述控制器，用于根据接收的镀膜参数生成加热功率调整量，并基于所述加热功率调整量对蒸发源的蒸发速率进行控制。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括：膜厚控制仪和采集部件；

所述采集部件，用于采集镀着第一目标镀膜元素所引起的振荡频率；

所述膜厚控制仪分别与所述控制器和所述采集部件连接，用于从采集部件获取振荡频率的变化量，根据所述变化量得到所述第一目标镀膜元素的厚度，并将所述第一目标镀膜元素的厚度发送至所述控制器；

所述控制器，用于根据所述镀膜参数和第一目标镀膜元素的厚度生成所述加热功率调整量。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述采集部件包括探头、用于至少部分容纳所述探头的探头腔室以及与探头连接的振荡器；

所述探头，用于采集第一目标镀膜元素的分压；

连接于所述探头的所述振荡器，用于在所述第一目标镀膜元素的分压作用下，进行振荡。

4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述采集部件的数量为至少两个；

所述采集部件的探头腔室与所述蒸发源间的距离在设定距离范围内。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，还包括第一隔离组件；

所述第一隔离组件安装在CIGS腔室与所述探头腔室之间；

所述CIGS腔室用于容纳所述蒸发源；

其中，所述第一隔离组件用于切换所述探头腔室与所述CIGS腔室间的连通状态。

6.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，还包括：采样部件和离线采集仪；

所述采样部件，用于镀着第二目标镀膜元素；

所述离线采集仪分别与所述采样部件和控制器连接，用于采集所述采样部件上的镀膜采样参数，并发送至所述控制器；

所述控制器，用于根据接收的镀膜参数、第一目标镀膜元素的厚度和镀膜采样参数生成所述加热功率调整量。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，采样部件包括：样片、用于装载所述样片的样片架和第二隔离组件；

所述样片架装载所述样片的一侧与所述第二隔离组件贴合；

所述第二隔离组件适于设置在CIGS腔室外壁上，用于切换所述样片与所述CIGS腔室的接触状态；

所述第二隔离件开启时，所述样片与所述CIGS腔室接触，用于镀着所述第二目标镀膜元素。

8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述第二隔离组件与所述控制器连接，用于根据所述控制器的控制指令，切换所述接触状态。

9.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，还包括真空部件；

所述真空部件分别与所述样片架和所述CIGS腔室的密封圈连接，用于对所述样片架与所述第二隔离组件间的空间和所述CIGS腔室抽真空，并保持样片架与所述第二隔离组件间的空间和CIGS腔室的真空度相同。

10.根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述在线采集仪为在线光学膜厚采集仪或者在线X射线荧光光谱分析采集仪；

所述离线采集仪为离线光学膜厚采集仪或者通量样片检测离线X射线荧光光谱分析采集仪。

11.一种蒸发源的蒸发速率控制方法，其特征在于，包括：

获取镀膜参数；

根据所述镀膜参数，生成加热功率调整量；

基于所述加热功率调整量对蒸发源的蒸发速率进行控制。