[发明专利]一种减小弹性印章变形的压印方法在审
| 申请号： | 201810371410.5 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN108556501A | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 孙洪文;殷敏琪;王海滨 | 申请（专利权）人： | 河海大学常州校区 |
| 主分类号： | B41M1/12 | 分类号： | B41M1/12;B41M7/00 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 丁涛 |
| 地址： | 213022 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 压印 弹性印章 印章 恢复原状 变形的 压印胶 衬底 减小 固化 填充 紫外光辐照 厚度分布 紫外光 残留层 均匀性 无压力 空腔 印胶 有压 去除 复制 施加 撤销 | ||
【权利要求书】：
1.一种减小弹性印章变形的压印方法，其特征在于，该方法的工艺步骤如下：
（1）准备弹性印章、压印衬底及压印胶；
（2）通过施加外力将印章压印到涂有压印胶的压印衬底上；
（3）撤销外力，并等待一段时间让弹性印章恢复原状；
（4）通过紫外光对压印胶体进行固化；
（5）将印章从压印胶分离。
2.根据权利要求1所述的减小弹性印章变形的压印方法，其特征在于：所述步骤(1)中所述弹性印章为具有柔性和弹性的材料，所述压印衬底为硅、玻璃、金属或在其表面涂覆有薄膜的叠层中的一种，所述压印胶为对紫外光敏感的聚合物。
3.根据权利要求1所述的减小弹性印章变形的新型压印方法，其特征在于：步骤(2)中施加外力压强数值范围为0.02MPa-2MPa，压强维持时间范围为10s-120s。
4.根据权利要求1所述的减小弹性印章变形的新型压印方法，其特征在于：步骤(3)中等待时间范围为1min-30min。
5.根据权利要求1所述的减小弹性印章变形的新型压印方法，其特征在于：步骤(4)中紫外光波长为365nm，紫外光照射时间为20s-80s。
6.根据权利要求2所述的减小弹性印章变形的压印方法，其特征在于：所述具有柔性和弹性的材料为硅橡胶材料，包括聚二甲基硅氧烷。
7.根据权利要求2所述的减小弹性印章变形的压印方法，其特征在于：所述薄膜为二氧化硅薄膜或氮化硅薄膜。
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