[发明专利]一种大理石晶面的抛光方法在审
| 申请号： | 201810351937.1 | 申请日： | 2018-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN108581642A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 阎军;王佳超 | 申请（专利权）人： | 上海兰升环境服务有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201600 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 大理石 抛光 混合液 结晶液 云石 大理石表面 坚固 研磨处理 研磨 称取 晶面 去除 喷洒 表面硬度 静置沉淀 抛光效果 重量组份 抛光剂 称重 水份 硬浆 | ||
【权利要求书】：
1.一种大理石晶面的抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：按重量组份比1∶0.5～2称取大理石结晶液和云石坚固剂；
步骤2：将步骤1中称取的大理石结晶液和云石坚固剂混合，然后静置沉淀10～40min，得到混合液；
步骤3：将步骤2中的混合液喷洒于待处理大理石的表面，然后进行研磨处理；
步骤4：在研磨处理后去除大理石表面硬浆，去除大理石表面水份。
2.根据权利要求1所述大理石晶面的抛光方法，其特征在于，所述方法还包括在步骤4后进行一次研磨处理。
3.根据权利要求2所述大理石晶面的抛光方法，其特征在于，研磨过程中采用晶面处理机和百洁垫进行处理。
4.根据权利要求1所述大理石晶面的抛光方法，其特征在于，所述大理石结晶液为NCL2501大理石结晶液。
5.根据权利要求1所述大理石晶面的抛光方法，其特征在于，所述云石坚固剂为sutter云石坚固剂。
6.根据权利要求1所述大理石晶面的抛光方法，其特征在于，步骤3中所述混合液喷洒量为5～50g/m2。
7.根据权利要求1所述大理石晶面的抛光方法，其特征在于，步骤3中所述研磨处理为横向往返研磨，且横向往返研磨的时间为3～10min/m2。
8.根据权利要求1～7任意一种所述大理石晶面的抛光方法，其特征在于，所述待处理大理石为天然大理石或者人造大理石。
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