[发明专利]衬管组件、等离子体处理装置和等离子体处理基板的方法

权利要求书

1.一种用于等离子体处理装置的衬管组件，所述等离子体处理装置具有坚固侧壁和盖组件，所述坚固侧壁具有形成于所述坚固侧壁中的单一狭缝阀，所述盖组件设置在所述坚固侧壁上并且包括喷头组件和盖板，所述喷头组件和所述盖板通过绝缘体彼此电气隔离，所述衬管组件包括：

圆柱形主体，所述圆柱形主体具有外壁，所述外壁经尺寸调整以滑入所述坚固侧壁内；

外部壁架；以及

多个狭槽，所述多个狭槽穿过所述圆柱形主体而形成，其中所述多个狭槽的第一狭槽经尺寸调整以允许基板穿过其间，且其中所述多个狭槽的其他狭槽是虚设狭槽，与所述侧壁没有对应关系，并且被定位成使穿过所述衬管组件的射频返回电流流动产生不对称现象以解调所述等离子体处理装置内部的另一电气或电导不对称现象，且其中所述圆柱形主体进一步包括形成在所述衬管组件中的冷却剂通道。

2.根据权利要求1所述的衬管组件，其中，所述多个狭槽以等距方式间隔开。

3.根据权利要求1所述的衬管组件，其中，所述多个狭槽为四个狭槽，所述四个狭槽以90度间隔开。

4.根据权利要求1所述的衬管组件，还包括：

底部，所述底部耦接至所述外壁；以及

内壁，所述内壁耦接至所述底部且所述内壁经尺寸调整以在所述处理装置的基板支撑件上滑动。

5.一种等离子体处理装置，所述离子体处理装置包括：

腔室主体，所述腔室主体具有坚固侧壁及底壁，其中，所述坚固侧壁及所述底壁界定处理容积，所述处理容积用于含有等离子体，所述坚固侧壁具有单一狭缝阀隧道，所述单一狭缝阀隧道穿过所述坚固侧壁形成；

盖组件，所述盖组件设置于所述腔室主体上，其中所述盖组件包括喷头组件和盖板，所述喷头组件和所述盖板通过绝缘体彼此电气隔离；以及

衬管组件，所述衬管组件设置于所述处理容积内部，所述衬管组件包括：

圆柱形主体，所述圆柱形主体具有外壁，所述外壁经尺寸调整以滑入所述坚固侧壁内；以及

三个或更多个狭槽，所述三个或更多个狭槽穿过所述圆柱形主体而形成并且完全沿着圆弧布置，其中所述三个或更多个狭槽的第一狭槽经尺寸调整以允许基板穿过其间并且与所述狭缝阀隧道对准，且其中所述三个或更多个狭槽的其他狭槽是虚设狭槽，与所述侧壁没有对应关系，并且被定位成使穿过所述衬管组件的射频返回电流流动产生不对称现象以解调所述等离子体处理装置内部的另一电气或电导不对称现象，且其中所述衬管组件进一步包括形成在所述衬管组件中的冷却剂通道。

6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，所述三个或更多个狭槽以等距方式间隔开。

7.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，所述三个或更多个狭槽是穿过所述衬管组件形成且以120度间隔开的三个狭槽。

8.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，所述三个或更多个狭槽是穿过所述衬管组件形成且以90度间隔开的四个狭槽。

9.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，所述衬管组件还包括：

外壁，所述外壁经尺寸调整以滑入所述腔室主体的所述坚固侧壁内；

底部，所述底部耦接至所述外壁；以及

外部壁架。

10.根据权利要求9所述的等离子体处理装置，其中，所述衬管组件还包括：

内壁，所述内壁耦接至所述底部且所述内壁经尺寸调整以在所述基板支撑件上滑动。