[发明专利]一种手机装饰图案用高耐磨微槽模具及其制备方法

说明书

本发明公开了一种手机装饰图案用高耐磨微槽模具的制备方法，具体步骤如下：清洗：清洗高铝玻璃基体；贴膜：在高铝玻璃基体上覆干膜；曝光：利用激光直写曝光机，按照设计的装饰图案，在干膜上曝光出图形；显影：将曝光的样品放入1%Na₂CO₃的溶液中显影，将设计的装饰图案转移到干膜上；刻蚀：在等离子体ICP刻蚀机上，刻蚀微槽图形；镀膜：采用CVD化学气相沉积设备，在微槽上镀聚四氟乙烯薄膜；坚膜：将模具模板放在烤箱内，对聚四氟乙烯薄膜进行坚膜处理。采用本发明的微槽模具制备出来的微槽装饰纹路结构不变形；本发明制备的聚四氟乙烯薄膜结合力强，寿命高，可以循环镀膜，一旦特氟龙薄膜损坏，可以重复镀膜。

技术领域

本发明属于微纳模具技术领域，具体涉及一种手机装饰图案用高耐磨微槽模具及其制备方法。

背景技术

手机外饰是手机销售的一个亮点，有漂亮的外观，更能激起大众的购买欲望。早期贴膜技术应用于手机外壳的制备之中，这种膜层容易老化与脱落，造成新的手机使用一段时间后，颜值急剧下降。BYD汽车电子公司研发出了Eu胶微槽纹路装饰技术，这种固化Eu胶微槽是采用微槽模具压印而成，制备如下：首先，将液体Eu胶涂覆在基材上，其二，利用微槽模具压印出微槽装饰纹路，第三，液体Eu胶加热100℃固化。微槽的深度为10-15μm，线条宽度60-100μm，这种纹路在光的折射、衍射条件下，显现出漂亮图案；并且，固化的Eu胶纹路图案使用寿命大于贴膜的使用寿命。

在现实生产中，生产微槽图案的微槽模具的材质同样使用固化的Eu胶。制备微槽模具主要工艺是：光刻-刻蚀-辅助工艺，这种技术是芯片半导体制备技术在工业生产中的延伸。由于Eu胶的加工性能好，工艺简单，目前在模具行业，固化Eu胶还有一定的市场份额。但是将固化的Eu胶作为模具材质，有一定的缺点，其一，模具基材与成型基材两种材质一样，在压印过程中会出现粘结，其二，固化Eu胶材质较软，有些纹路会有一定变形。这就迫切需要一种新的材质微槽模具替代固化Eu胶材质模具，解决固化Eu胶模具的粘结以及压印微槽变形的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是解决固化Eu胶模具的粘结以及压印微槽变形的问题，为解决上述问题，本发明提供一种手机装饰图案用高耐磨微槽模具及其制备方法。

本发明的目的是以下述方式实现的：

一种手机装饰图案用高耐磨微槽模具的制备方法，具体步骤如下：

（1）清洗：清洗高铝玻璃基体；

（2）贴膜：在高铝玻璃基体上覆干膜；

（3）曝光：利用激光直写曝光机，按照设计的装饰图案，在干膜上曝光出图形；

（4）显影：将曝光的样品放入1%Na₂CO₃的溶液中显影，将设计的装饰图案转移到干膜上；

（5）刻蚀：在等离子体ICP刻蚀机上，刻蚀微槽图形；

（6）镀膜：采用CVD化学气相沉积设备，在微槽上镀聚四氟乙烯薄膜；

（7）坚膜：将模具模板放在烤箱内，对聚四氟乙烯薄膜进行坚膜处理。

所述高铝玻璃基体中氧化铝的含量为60-70%，其余为石英；聚四氟乙烯薄膜的厚度为60-120 nm。

所述步骤（2）中，选用RISTON LM8040干膜作为制模材料，使用覆膜机将干膜附着在高铝玻璃基体上；覆膜机的温度调至100-110℃，滚筒转速为1-1.5m/min，选取线压力为0.6-0.7kg/cm。

所述步骤（3）中，采用直写式光刻机，将图像转移到干膜上，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案；曝光光源为405 nmLED 1.5W，直写速度为120mm²/min。曝光时间为50-100ms。