[发明专利]硅基OLED微显示器的对位装置及制作系统在审
申请号: | 201810315763.3 | 申请日: | 2018-04-10 |
公开(公告)号: | CN108441815A | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 吴疆 | 申请(专利权)人: | 上海瀚莅电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;H01L51/56 |
代理公司: | 苏州携智汇佳专利代理事务所(普通合伙) 32278 | 代理人: | 尹丽 |
地址: | 202150 上海市崇明区横沙乡富民*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 硅基 掩膜板 对位 激光定位 对位装置 对位组件 微显示器 激光 产业化过程 高精度对位 激光对位 激光透过 人员成本 相对设置 制作系统 贯穿 | ||
1.一种硅基OLED微显示器的对位装置,包括硅基底、对位组件以及位于所述硅基底下方的掩膜板,其特征在于:所述对位组件包括位于所述硅基底上方的对位激光和位于所述掩膜板下方的激光定位件,所述对位激光与所述激光定位件相对设置,所述硅基底上开设有贯穿所述硅基底的第一孔,所述掩膜板上对应开设有第二孔,以便所述对位激光透过所述第一孔和第二孔,与所述激光定位件进行激光对位。
2.根据权利要求1所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述第一孔的尺寸与所述第二孔的尺寸相同。
3.根据权利要求1所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述第二孔贯穿所述掩膜板设置。
4.根据权利要求1所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述第一孔与所述第二孔均通过刻蚀形成。
5.根据权利要求1所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述第一孔和所述第二孔均呈规则形状设置。
6.根据权利要求5所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述第一孔和所述第二孔均呈圆形设置。
7.根据权利要求1所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述第一孔开设于所述硅基底的两端边缘处,所述第二孔对应开设于所述掩膜板的两端边缘处。
8.根据权利要求1所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述对位激光为He-Ne(氦氖)气体激光器。
9.根据权利要求1所述的硅基OLED微显示器的对位装置,其特征在于:所述激光定位件的底部设有磁性底座。
10.一种硅基OLED微显示器的制作系统,包括蒸镀腔室和位于所述蒸镀腔室内的蒸发源,其特征在于:还包括权利要求1-9中任一项所述的硅基OLED微显示器的对位装置,所述硅基OLED微显示器的对位装置收容于所述蒸镀腔室内,且所述硅基底、所述掩膜板及所述对位激光均位于所述蒸发源的上方,所述激光定位件位于所述蒸发源的下方。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海瀚莅电子科技有限公司,未经上海瀚莅电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810315763.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:掩膜装置及其制作方法、蒸镀系统
- 下一篇:一种掩模版及蒸镀装置
- 同类专利
- 专利分类